[发明专利]玻璃基板的刻划方法及加工装置有效

专利信息
申请号: 201210313553.3 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN102964059A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 苏宇航;池田刚史;山本幸司 申请(专利权)人: 三星钻石工业股份有限公司
主分类号: C03B33/09 分类号: C03B33/09
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 刻划 方法 加工 装置
【权利要求书】:

1.一种玻璃基板的刻划方法,该刻划方法用于对表面具备带有压缩应力的强化层的玻璃沿刻划预定线进行刻划,所述玻璃基板的刻划方法的特征在于,

所述玻璃基板的刻划方法包括:

第1工序,在该第1工序中,将玻璃载置到具有保持基板用的多个吸附孔的工作台,并且,利用比玻璃的刻划预定线上的中央部强的吸附压来吸附玻璃的位于刻划预定线的终端侧的玻璃端部;

第2工序,在该第2工序中,在玻璃的表面形成初始龟裂;以及

第3工序,在该第3工序中,对玻璃的表面照射激光以进行加热,并且对被加热的区域进行冷却,使龟裂沿着刻划预定线发展而形成刻划槽。

2.根据权利要求1所述的玻璃基板的刻划方法,其特征在于,

在所述第1工序中,利用比玻璃的刻划预定线上的中央部强的吸附压,吸附玻璃的位于刻划预定线的开始端侧的玻璃端部。

3.根据权利要求1所述的玻璃基板的刻划方法,其特征在于,

在所述第3工序中,沿相互正交的多个刻划预定线形成刻划槽;

在所述第1工序中,利用比其他区域强的吸附压吸附玻璃的全部外周端部。

4.一种玻璃基板的加工装置,所述玻璃基板的加工装置对表面具备带有压缩应力的强化层的玻璃沿刻划预定线进行刻划,所述玻璃基板的加工装置的特征在于,

所述玻璃基板的加工装置具备:

工作台,其具有多个吸附孔,吸附并保持被载置于表面的玻璃;

照射部,其对玻璃照射激光光束;

冷却部,其对被所述照射部加热的区域进行冷却;

移动单元,其使所述照射部及冷却部沿设定在玻璃上的刻划预定线相对移动;以及

吸附压控制部,其将所述工作台上的吸附压控制为:玻璃的至少位于刻划预定线的终端侧位置的端部的吸附压比玻璃的刻划预定线上的中央部的吸附压强。

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