[发明专利]线性电机和包括线性电机的光刻布置

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

照射系统，配置成调节辐射束；

支撑结构，配置成保持图案形成装置，该图案形成装置配置成将被调节的辐射束图案化；

衬底台，配置成保持衬底；

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；和

照射不规则性校正系统，定位在配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳的平面处，所述均匀性校正系统包括：指状件，所述指状件配置成能够移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出，以便校正辐射束的相应部分的强度；和耦接至指状件中的对应的指状件的致动装置，所述致动装置配置成移动相应的指状件，所述致动装置包括：

固定的定子，包括以空间顺序设置在一平面上的第一极、第二极和第三极，其中第一极和第三极具有缠绕到其上的线圈；和

转子，该转子包括设置在所述平面中的第四极和第五极，所述转子构造和布置成在固定的定子的第一极、第二极和第三极响应于被以时间顺序激励的、缠绕到第一极和第三极上的线圈而被激励时在两维上是能够线性移动的，其中第四极和第五极设置成与第一极、第二极和第三极相对，固定的定子构造和布置成相对于转子是固定的。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述转子被构造和布置成响应于以微步进的形式对每一线圈中的电流的调节来定位所述指状件中的至少一个指状件。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中每个线圈中的电流被以正弦余弦微步进方式来调节。

4.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括被构造和布置成控制致动装置的伺服控制系统，所述伺服控制系统包括：

被构造和布置成设定指状件的期望位置的模块；

被构造和布置成感测指状件的当前位置的模块；和

被构造和布置成生成适合于控制指状件的位置使得将其定位在期望的位置上的电流的模块。

5.一种线性开关磁阻电机，包括：

定子，具有固定的线圈布置，所述定子包括以空间顺序设置在一平面上的至少三个极；和

转子，包括设置在所述平面中的至少两个极，所述转子构造和布置成在定子被构造和布置成相对于转子保持静止的同时通过固定的线圈布置在两维上能够线性移动，其中所述至少两个极设置成与所述至少三个极相对。

6.根据权利要求5所述的线性开关磁阻电机，其中所述固定的线圈布置还包括缠绕到所述至少三个极中的至少两个极中的每个极上的线圈。

7.一种线性开关磁阻电机，包括：

固定的定子，包括以空间顺序设置在一平面上的第一极、第二极和第三极，其中第一极和第三极具有缠绕到其上的线圈；和

转子，包括设置在所述平面中的第四极和第五极，所述转子构造和布置成在固定的定子的第一极、第二极和第三极响应于被以时间顺序激励的、缠绕到第一极和第三极上的线圈而被激励时在两维上是能够线性移动的，其中第四极和第五极设置成与第一极、第二极和第三极相对，固定的定子构造和布置成相对于转子是固定的。

8.根据权利要求7所述的线性开关磁阻电机，其中所述转子耦接至指状件，所述转子构造和布置成响应于以微步进的方式对每一线圈中的电流的调节来定位指状件，其中每个线圈中的电流被以正弦余弦微步进方式来调节。

9.一种照射不规则性校正系统，定位在配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳的平面处，所述均匀性校正系统包括：

多个指状件，配置成可移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出，以便校正辐射束的相应部分的强度；和

多个致动装置，耦接至指状件中的对应的指状件，和配置成移动对应的指状件，致动装置包括：

固定的定子，包括以空间顺序设置在一平面上的第一极、第二极和第三极，其中第一极和第三极具有缠绕到其上的线圈；和

转子，该转子包括设置在所述平面中的第四极和第五极，所述转子构造和布置成在固定的定子的第一极、第二极和第三极响应于被以时间顺序激励的、缠绕到第一极和第三极上的线圈而被激励时在两维上是能够线性移动的，其中第四极和第五极设置成与第一极、第二极和第三极相对，固定的定子构造和布置成相对于转子是固定的。