[发明专利]触控面板的制作方法无效
申请号: | 201210316617.5 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103034357A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 李文政;林钟伟;薛秉中;庄恒隆;赖纪光 | 申请(专利权)人: | 达鸿先进科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 须一平 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 面板 制作方法 | ||
1.一种触控面板的制作方法,于一个基板上形成一层成触控图像的导线层,其特征在于,包含:(a)于该基板上以导电材料构成一层导线准备层;(b)在该导线准备层上涂布一层由反射率远低于构成该导线准备层的导电材料的材料所构成的遮光准备层;(c)使用一个具有对应于该触控图像的图案的遮罩,经过曝光和显影而使该遮光准备层形成一层成该触控图像的遮光层;及(d)以该遮光层作为该导线准备层的遮罩,蚀刻移除该导线准备层未被该遮光层遮覆的区域,而成为该成触控图像的导线层。
2.如权利要求1中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该步骤(c)的遮光准备层是负向光阻。
3.如权利要求2中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该步骤(b)的导线准备层选自钼、铝、钛、银、金,及前述的一组合为材料所构成。
4.如权利要求3中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该步骤(c)的遮光准备层是黑色矩阵。
5.如权利要求4中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该步骤(c)的该遮光层的厚度不小于100am。
6.如权利要求5中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该步骤(d)是以湿蚀刻的方式移除该导线准备层未被该遮光层遮覆的区域。
7.如权利要求1中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该触控面板的制作方法还包含一个于该步骤(a)前的步骤(e),该步骤(e)是先在一个基材上设置多个成条状且彼此间隔的第一透明导电膜,及多个位于两两相邻第一透明导电膜间的第二透明导电膜,再于每一第一透明导电膜上设置多个彼此间隔且对应地位于该第一透明导电膜两侧的第二透明导电膜的假想连线上的绝缘膜,而形成该基板,该步骤(c)的遮光层设置于该绝缘膜及该绝缘膜两侧的第二透明导电膜上方,则该步骤(d)的导线层借由该绝缘膜而与该第一透明导电膜间隔,并电连接该绝缘膜两侧的第二透明导电膜。
8.如权利要求7中所述的触控面板的制作方法,其特征在于:该导线层的片电阻小于所述第一透明导电膜和所述二透明导电膜的片电阻。
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