[发明专利]发光二极管管芯及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210319962.4 申请日: 2012-08-31
公开(公告)号: CN103579439A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 蔡沛修;江彦志 申请(专利权)人: 隆达电子股份有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光二极管 管芯 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种发光二极管管芯,包括:

基板;

第一型半导体外延层、发光层及第二型半导体外延层,依序堆叠于该基板上,而构成一半导体外延堆叠层,且裸露部分该第一型半导体外延层;

第一电极,沿一第一方向延伸形成于该裸露的第一型半导体外延层上;

第二电极,沿该第一方向延伸形成于该第二型外延半导体层上;以及

分支电极组,包括:

第一分支电极,沿垂直于该第一方向的第二方向,自该第一电极朝该第二电极延伸;以及

第二分支电极,沿垂直于该第一方向的第三方向,自该第二电极朝该第一电极延伸。

2.如权利要求1所述的发光二极管管芯,包括两个该分支电极组,该两个分支电极组相对称。

3.如权利要求1所述的发光二极管管芯,其中该分支电极组包括两个该第二分支电极,且该第一分支电极延伸至该两个第二分支电极之间。

4.如权利要求1所述的发光二极管管芯,其中该分支电极组包括两个该第一分支电极及两个该第二分支电极,该两个第一分支电极之一者延伸至该两个第二分支电极之间,该两个第二分支电极之一者延伸至该两个第一分支电极之间。

5.如权利要求2所述的发光二极管管芯,其中该半导体外延堆叠层还包括多道裂片狭缝或裂片界面。

6.如权利要求5所述的发光二极管管芯,其中该裂片狭缝位于该两个分支电极组之间的该半导体外延堆叠层表面,且在该裂片狭缝与该第一、第二电极交界处具有绝缘层,以隔离该第一、第二电极与该裂片狭缝。

7.如权利要求6所述的发光二极管管芯,其中该裂片狭缝是刀具切割所形成。

8.如权利要求5所述的发光二极管管芯,其中该裂片界面位于该两个分支电极组之间的该半导体外延堆叠层内部。

9.如权利要求8所述的发光二极管管芯,其中该裂片界面是激光制作工艺所完成。

10.如权利要求1至9中任一项所述的发光二极管管芯,其中该第一型半导体外延层为P型,而该第二型半导体外延层为N型,或该第一型半导体外延层为N型而该第二型半导体外延层为P型。

11.如权利要求1所述的发光二极管管芯,还包括一裂片参考记号,形成于该半导体外延堆叠层上。

12.一种发光二极管管芯的制造方法,包括:

提供一基板;

依序形成一第一型半导体外延层、一发光层以及一第二型半导体外延层于该基板上,构成一半导体外延堆叠层,且有部分该第一型半导体外延层裸露;

沿一第四方向形成多道裂片狭缝于该半导体外延堆叠层上;

形成一绝缘层于该裂片狭缝内;

形成一第一电极、一第二电极及多个分支电极组于该半导体外延堆叠层上,其中该第一电极沿一第一方向延伸形成于该裸露的第一型半导体外延层上,该第二电极沿一第一方向延伸形成于该第二型半导体外延层上,而各该分支电极组均包括一第一分支电极及一第二分支电极,且该第一分支电极沿垂直于该第一方向的第二方向,自该第一电极朝该第二电极延伸,而形成于该裸露的第一型半导体外延层上,而该第二分支电极则沿垂直于该第一方向的第三方向,自该第二电极朝该第一电极延伸,而形成于该第二型半导体外延层上,其中各该分支电极组分别位在该裂片狭缝的二侧,且该第四方向平行于该第二及第三方向,其中该第一电极及该第二电极经过该绝缘层;以及

根据所需要的发光二极管管芯的尺寸,沿部分该些裂片狭缝施以一裂片制作工艺,以获得个别的发光二极管管芯。

13.如权利要求12所述的制造方法,其中该些裂片狭缝是以一刀具切割或一激光完成。

14.如权利要求12至13中任一项所述的制造方法,其中该第一型半导体外延层为P型而该第二型半导体外延层为N型,或该第一型半导体外延层为N型而该第二型半导体外延层为P型。

15.如权利要求14所述的制造方法,其中该半导体堆叠外延层上还包括一裂片参考记号,使得该刀具或该激光可据以切割形成该裂片狭缝。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于隆达电子股份有限公司,未经隆达电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210319962.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top