[发明专利]曝光装置、曝光管理系统、和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

取得部，取得对于彼此不同的多个焦点偏移量测量的多个测量值，即分别表示拍摄区域内的位置偏移分布的上述多个测量值；和

计算部，从上述多个测量值求多个失真误差，按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，求焦点偏移量和用于修正失真误差的位置对准修正值的相关关系。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述失真误差是表示位置偏移分布的失真的误差。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部以向量单纯地相加上述多个测量值中包括的多个位置偏移量，求上述失真误差。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部进行如下计算处理：求如消除上述求的失真误差那样的向量，求与上述求的向量相对应的多个系数作为上述位置对准修正值。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部对于上述多个焦点偏移量反复进行上述计算处理，关于多个上述系数的各个求上述相关关系。

6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部进而求与上述相关关系相对应的相关信息。

7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，求使焦点偏移量和位置对准修正值关于多个焦点偏移量相对应的相关表。

8.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

存储部，存储上述求的相关表。

9.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，得到使焦点偏移量和位置对准修正值关于上述多个焦点偏移量相对应的相关关系，从求的相关关系提取由实际器件使用时与预想的多个焦点偏移量相对应的值，求使焦点偏移量和位置对准修正值关于上述预想的多个焦点偏移量相对应的相关表。

10.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，求表示焦点偏移量和位置对准修正值的关系的函数式。

11.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

存储部，存储上述求的函数式。

12.如权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，

上述计算部按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，得到使焦点偏移量和位置对准修正值关于上述多个焦点偏移量相对应的相关关系，从得到的相关关系求上述函数式。

13.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

第1确定部，确定在曝光基板时的焦点偏移量；

第2确定部，按照上述相关关系，确定对于已确定的焦点偏移量的位置对准修正值；和

处理部，使用已确定的位置对准修正值，曝光上述基板。

14.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述曝光装置是EUV曝光装置。

15.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述曝光装置是浸液曝光装置。

16.一种曝光管理系统，其特征在于，包括：

多个曝光装置；和

经由通信线路与上述多个曝光装置连接的管理中心；

其中，上述多个曝光装置的各个包括：

取得部，取得对于彼此不同的多个焦点偏移量测量的多个测量值，即分别表示拍摄区域内的位置偏移分布的多个测量值；和

存储部，存储上述取得的多个测量值；

其中，上述管理中心包括：

接收部，经由上述通信线路访问上述曝光装置的存储部，接收上述存储的多个测量值；和

计算部，从上述多个测量值求多个失真误差，按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，求焦点偏移量和用于修正失真误差的位置对准修正值的相关关系。

17.如权利要求16所述的曝光管理系统，其特征在于，

上述管理中心还包括：存储部，关于上述多个曝光装置存储使与上述相关关系对应的相关信息与上述曝光装置的识别信息相对应的相关关系数据库。