[发明专利]内置式电容触摸面板、显示器及制造方法

权利要求书

1.一种内嵌式电容触摸面板，包括基板以及依次形成在基板上的黑矩阵、透明导电层以及色阻，所述黑矩阵设有多个透光区域，所述色阻按照一定排列规律覆盖在所述黑矩阵的透光区域上方，其特征在于，所述透明导电层的刻缝设置在所述黑矩阵不透光区域上方和/或设置在同种色阻下方。

2.如权利要求1所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述排列规律包括：在横向上依次排列R、G、B三种色阻，纵向上排列同种色阻。

3.如权利要求2所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述纵向上的黑矩阵不透光区域的线宽为7.0μm~8.0μm。

4.如权利要求3所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述横向上的黑矩阵不透光区域的线宽为24.5μm~26.5μm。

5.如权利要求2所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述透明导电层的横向刻缝设置在所述黑矩阵不透光区域上方，纵向刻缝设置在同种色阻下方。

6.如权利要求2至5中任一项所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述透明导电层的横向刻缝线宽为所述横向上的黑矩阵不透光区域的线宽的0.1至0.9倍。

7.如权利要求2至5中任一项所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述透明导电层横向刻缝线宽为3μm~22μm。

8.如权利要求2至5中任一项所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述透明导电层纵向刻缝线宽为一个像素的大小减去所述纵向上的黑矩阵不透光区域的线宽至一个像素大小加上所述纵向上的黑矩阵不透光区域的线宽。

9.如权利要求2至5中任一项所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述透明导电层纵向刻缝线宽为33.5μm~38.5μm。

10.如权利要求1所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，还包括：位于所述黑矩阵和透明导电层之间的金属网格。

11.如权利要求1或10所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，还包括：位于所述透明导电层和色阻之间的第一绝缘层和金属跨桥。

12.如权利要求1所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，还包括：依次形成于所述色阻上的第二绝缘层和光刻隔垫物。

13.如权利要求1所述的内嵌式电容触摸面板，其特征在于，所述透明导电层的材料为氧化铟锡、氧化铟锌、碳纳米管或铝钛共掺杂氧化锌。

14.一种内嵌式电容触摸显示器，其特征在于，包括如权利要求1至13中任一项所述的内嵌式电容触摸面板。

15.一种制造权利要求1至13中任一项所述的内嵌式电容触摸面板的方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上依次形成黑矩阵、透明导电层以及色阻，所述黑矩阵设有多个透光区域，所述色阻按照一定排列规律覆盖在所述黑矩阵的透光区域上方，所述透明导电层的刻缝设置在所述黑矩阵不透光区域上方和/或设置在同种色阻下方。