[发明专利]阵列基板及其制作方法、液晶面板和显示装置

权利要求书

1.一种半透半反式的像素阵列基板，包括基板和所述基板上的多个像素，所述像素包含透射区和反射区，所述像素具有一个摩擦方向，其特征在于，在每个所述像素的所述透射区与所述反射区的任一边界处，所述摩擦方向平行于所述边界；或者，沿着所述像素的摩擦方向看，从所述透射区向所述反射区为上升沿。

2.如权利要求1所述的半透半反式的像素阵列基板，其特征在于，所述透射区与所述反射区的边界为一条直线或两条平行的直线。

3.如权利要求1所述的半透半反式的像素阵列基板，其特征在于，所述反射区为一个等腰直角三角形、一个非等腰直角三角形、一个矩形、一个直角梯形、两个等腰直角三角形其中一种。

4.如权利要求1所述的半透半反式的像素阵列基板，其特征在于，所述摩擦方向与像素排列的行方向的夹角为45°、135°、225°或315°。

5.一种液晶面板，其特征在于，所述液晶面板包括如权利要求1至4任一项所述的像素阵列基板。

6.一种显示装置，其特征在于，所述液晶面板包括如权利要求5所述的液晶面板。

7.一种半透半反式的像素阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一基板，在所述基板上规划像素的分布及像素图形，所述像素图形包含透射区图形和反射区图形；

在所述像素上形成与所述透射区图形和所述反射区图形对应的透射区和反射区；

在每个所述像素的所述透射区与反射区的任一边界处，选择平行于所述边界的方向为摩擦方向；或者，选择沿着所述像素的摩擦方向看，从所述透射区向所述反射区为上升沿的方向为摩擦方向，对所述像素的所述透射区和所述反射区进行摩擦使所述像素具有摩擦取向。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述透射区与所述反射区的边界为一条直线或两条平行的直线。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，选择平行于所述边界的方向为摩擦方向；或者，沿着所述像素的摩擦方向看，选择从所述透射区向所述反射区为上升沿的方向为摩擦方向，包括：

若所述透射区为一个等腰直角三角形，选择平行于所述透射区与所述反射区的边界的摩擦方向，或选择由所述透射区向所述反射区为上升沿的摩擦方向；

若所述透射区为一个非等腰直角三角形、一个矩形或一个直角梯形，选择由所述透射区向所述反射区为上升沿的摩擦方向；

若所述透射区为两个等腰直角三角形，选择平行于所述透射区与所述反射区的边界的摩擦方向。

10.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述所述摩擦方向与像素排列的行方向的夹角为45°、135°、225°或315°。