[发明专利]阵列基板及其制作方法、液晶面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201210365899.8 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN102879953A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 秦广奎;铃木照晃 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 液晶面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种半透半反式的像素阵列基板及其制作方法、以及采用这种半透半反式像素阵列的液晶面板和显示装置。

背景技术

液晶显示器分为透射式显示器、反射式显示器和半透半反式显示器。

透射式显示器屏幕背面没有反光镜,靠背光提供光源,在弱光或无光下表现优秀。但是在户外阳光下或强光环境下背光亮度严重不足,且单纯依靠提高背光亮度,会急速损失电量,而且效果也非常不理想。

反射式显示器屏幕背面有反光镜,依赖外部光源达到显示效果,因此在户外及强光下反而会呈现更佳的效果及对比,但是反射式显示器较难在高分辨率下达到高对比及高彩色品质的影像,尤其是全彩化的要求。而且当环境光源不足时,反射式显示器的对比与亮度会大受折扣。

半透半反式显示器同时采用了透射式和反射式的设计,同时具备背光源和反射层,因此在使用时既可以使用自身的背光源也可以利用外在的光源,从面无论在强光下或是昏暗处都能向使用者提供良好的观看品质。

现有技术的半透半反显示器设计中的像素结构,如图1所示,由于在透射区100和反射区101存在高度差(透射区高于反射区),因此,在摩擦方向1001上进行摩擦取向操作后,在透射区和反射区边界处存在摩擦阴影102,造成此处的液晶取向不正常,从而导致漏光严重,对比度非常低;且透射区100和反射区101的边界过长,会造成像素的有效利用区减少,还会降低显示器的对比度。

发明内容

本发明的目的是提供一种半透半反式的像素阵列基板及其制作方法、液晶面板和显示装置,以解决现有技术中,由于对像素摩擦时透射区和反射区边界形成摩擦阴影后该区域液晶取向异常,从而显示器漏光严重;以及透射区和反射区的边界过长,导致显示器对比度低的问题。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:

本发明实施例还提供一种半透半反式的像素阵列基板,包括基板和所述基板上的多个像素,所述像素图形包含透射区图形和反射区图形,所述像素具有一个摩擦方向,在每个所述像素的所述透射区与所述反射区的任一边界处,所述摩擦方向平行于所述边界;或者,沿着所述像素的摩擦方向看,从所述透射区向所述反射区为上升沿。

较佳的一实施例中,所述透射区与所述反射区的边界为一条直线或两条平行的直线。

较佳的一实施例中,所述反射区为一个等腰直角三角形、一个非等腰直角三角形、一个矩形、一个直角梯形、两个等腰直角三角形其中一种。

较佳的一实施例中,所述摩擦方向为45°、135°、225°或315°。

本发明实施例还提供一种液晶面板,所述液晶面板包括如上所述的像素阵列基板。

本发明实施例还提供一种显示装置,所述液晶面板包括如上所述的液晶面板。

本发明实施例提供一种半透半反式的像素阵列基板的制作方法,步骤如下:提供一基板,在所述基板上规划像素的分布及像素图形,所述像素图形包含透射区图形和反射区图形;

在所述像素上形成与所述透射区图形和所述反射区图形对应的透射区和反射区;

在每个所述像素的所述透射区与反射区的任一边界处,选择平行于所述边界的方向为摩擦方向;或者,选择沿着所述像素的摩擦方向看,从所述透射区向所述反射区为上升沿的方向为摩擦方向,对所述像素的所述透射区和所述反射区进行摩擦使所述像素具有摩擦取向。

较佳的一实施例中,所述透射区与所述反射区的边界为一条直线或两条平行的直线。

较佳的一实施例中,选择平行于所述边界的方向为摩擦方向;或者,选择沿着所述像素的摩擦方向看,从所述透射区向所述反射区为上升沿的方向为摩擦方向,包括:

若所述透射区为一个等腰直角三角形,选择平行于所述透射区与所述反射区的边界的摩擦方向,或选择由所述透射区向所述反射区为上升沿的摩擦方向;

若所述透射区为一个非等腰直角三角形、一个矩形或一个直角梯形,选择由所述透射区向所述反射区为上升沿的摩擦方向;

若所述透射区为两个等腰直角三角形,选择平行于所述透射区与所述反射区的边界的摩擦方向。

较佳的一实施例中,所述摩擦方向为45°、135°、225°或315°。

本发明实施例具有如下有益效果:通过规划像素的透射区图形和反射区图形,并选择适当的摩擦方向,实现像素摩擦取向过程中,透射区和反射区的边界处不会出现摩擦阴影,从而确保透射区和反射区的边界处的液晶取向正常,克服漏光及对比度低的缺陷。

附图说明

图1为现有技术中像素的透射区和反射区结构以及摩擦角度示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210365899.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top