[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘、磁记录再生装置

权利要求书

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括研磨工序，在所述研磨工序中使用研磨液对玻璃基板的主表面进行研磨，所述研磨液包含作为研磨材料的具有单斜晶结构和正方晶结构的氧化锆磨粒。

2.根据权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆磨粒中，将相对于单斜晶结构的量的正方晶结构的量的比率以通过X射线衍射的相对于单斜晶结构的峰值的积分强度的正方晶结构的峰值的积分强度的比率求出时，该比率为0.7％以上3.0％以下的范围。

3.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆磨粒由氧化锆的一次粒子的凝集体构成，所述氧化锆的一次粒子具有单斜晶结构和正方晶结构的两种结构。

4.根据权利要求1至3任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆磨粒不包含稳定化剂。

5.根据权利要求1至4任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氧化锆磨粒的平均粒径D50为0.2～0.5μm。

6.根据权利要求1至5任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述研磨工序中，使用具有JIS-A硬度为80～100的研磨垫对所述玻璃基板主表面进行研磨。

7.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括研磨工序，在所述研磨工序中使用研磨液进行研磨，所述研磨液包含作为研磨材料的含钇的部分稳定化氧化锆。

8.根据权利要求7所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述部分稳定化氧化锆将钇以钇的氧化物形式含在其中，包含在所述研磨材料的钇的摩尔比为1％～6％的范围。

9.根据权利要求7或8所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，相对于所述研磨材料，表示通过粉末X射线衍射的入射角和衍射强度关系的衍射图案中，氧化锆的晶体结构中立方晶的衍射强度的峰值最高。

10.根据权利要求1至9任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板的破坏韧性值为0.4～1.5MPa/m^1/2范围内。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述研磨工序后，还包括后研磨工序，在所述后研磨工序中使用包含作为磨粒的硅胶的研磨液进行研磨。

12.根据权利要求11所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述后研磨工序的加工余量为5μm以下。

13.根据权利要求11或者12所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述研磨工序和后研磨工序之间，进一步包括使用包含氧化铈磨粒的研磨液进行研磨的中间研磨工序。

14.根据权利要求11至13任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述研磨工序和所述后研磨工序之间包括化学强化工序。

15.一种磁盘，其特征在于，在通过权利要求1至14中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法所制造的磁盘用玻璃基板的主表面上，至少形成磁性层。

16.一种磁记录再生装置，其特征在于，包括权利要求15所述的磁盘和搭载DFH控制机构的磁头。