[发明专利]用于润湿扁平基底的装置和具有这种装置的设备

权利要求书

1.一种用于润湿扁平基底的装置，其中，当基底在输送面上沿着输送轨移动时，利用流体来润湿基底底面，其中，所述装置具有多个流体输出件，所述流体输出件各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处，其中，所述输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备，其中规定，流体从下面输送至流体输出件或输出开口，其特征在于，在周向边缘的下方优选在周向边缘下方数毫米处设置有引自流体储备的流体流出件，在流体输出件周围设置有收集下凹，收集下凹通过流出开口与流出槽连接，其中设置有引入到用于流体的分布通道中的流入道，该分布通道引导液体地与设置于其上方的流体输出件连接，以便输送流体，其中该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，沿着该装置特别是成一条直线地设置有多个流体输出件或输出喷嘴，其中优选给至少一对彼此靠近地尤其是直接并排地布置的流体输出件设置有输出开口，优选在该装置的外端上给各个流体输出件分别设置一个输出开口。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，流体输出件向上突出于其它装置或其基本上平面的顶面数厘米，尤其是2cm-10cm。

4.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，流体输出件为管式结构，且向上突出于装置的顶面，其中优选在该顶面上围绕流体输出件设置前述收集下凹，所述收集下凹在顶面下方具有数毫米的深度。

5.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在从下面引入到流体输出件中的流体输入件内设置有节流件，该节流件用于限制输入的流体量，其中优选节流件的通流截面大致等于流体流出件的通流截面。

6.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，流体流出件斜向下朝向，其中优选给每个流体输出件设置一个唯一的流体流出件。

7.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，输出开口在内缘上具有倾斜的内壁，且具有向上增大的直径。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，输出开口为圆形结构，其中该输出开口尤其在内壁上是圆锥形的。

9.如权利要求1-7中任一项所述的装置，其特征在于，输出开口又长又窄，尤其在装置的纵向延展方向上具有纵向长度。

10.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，输出开口在周向边缘上朝向内侧具有尖锐的边，该边优选沿着平行于输送面的平面伸展。

11.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在装置壳体内设置有把流体输送至输出开口的输入件连同分布通道在内和流体流出件，特别是设置有一个中央的流入道和/或一个唯一的流出道，其中优选在装置壳体中在上面设置用于待输入的流体的分布通道，进而使该分布通道直接与从下面引入到流体输出件中的流体输入件连接。

12.如权利要求11所述的装置，其特征在于，在分布通道的下方设置有基本上连续的流出槽，流出开口伸入到该流出槽中，流出槽具有一个中央的流出道，其中优选流出槽或者至少其底部相对于水平线倾斜地伸展，流出道设置在流出槽中的最低点。

13.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，用于来自收集下凹的流体的流出开口靠近装置的或装置壳体的纵外侧面布置，且经过分布通道。

14.一种用于在输送面中利用输送轨来处理扁平基底的设备，其中沿着输送轨在基本横向于该输送轨的方向上设置至少一个根据前述权利要求中任一项的装置，在该装置的前面和后面设置有用于形成输送轨的输送滚轮，其中所述输送滚轮无处理功能或润湿功能。

15.如权利要求14所述的设备，其特征在于，在该设备上特别是在输送轨的下方设置有气体吸出件。

16.如权利要求14或15所述的设备，其特征在于，沿着输送轨设置有多个根据权利要求1-13中任一项的装置，其中优选在每个装置的前面和后面都设置有输送滚轮。