[发明专利]用于润湿扁平基底的装置和具有这种装置的设备

说明书

技术领域

本发明涉及用于润湿扁平基底或其基底底面的装置以及具有至少一个这种装置的设备。

背景技术

例如由DE102005062528A1已知，例如为了刻蚀过程，用流体将电路板或太阳能电池晶片形式的扁平基底的底面润湿。为了用流体进行润湿，输送滚轮在滚动时其下部区域处于流体中，于是流体在输送滚轮旋转时保持附着在所述区域上，进而涂布到位于上面的基底底面上。但这一方面意味着可以根据基底底面支撑在滚轮上的支撑力略微地改变流体涂布的方式，另一方面也意味着可能会出现并非所愿的效应，比如基底底面上的稍厚的液体膜受到挤压。

按照由WO2008/048259A2已知的方法，利用腔室中的凸形地向上拱曲的流体月牙弯，将流体涂布到基底的基底底面上，所述基底被输送经过该流体。由此可以实现用流体采用本来无接触的方式将基底底面润湿。

发明内容

本发明的目的在于，提出开头部分所述的装置以及带有至少一个这种装置的设备，借此能避免现有技术的问题，尤其是能实现有利地润湿基底或其基底底面。

采用具有权利要求1的特征的装置以及具有权利要求14的特征的设备，即可实现该目的。其它权利要求所述内容均为本发明的有利的以及优选的设计，下面对其予以详述。在这里，有些下述特征仅针对装置或者仅针对设备来介绍。但这些特征应与此无关地既可以适用于装置，又可以适用于相应的设备。权利要求书的内容明确地被援引加入成说明书的内容。

规定，所述装置具有多个流体输出件，它们各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处。这些输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备。此外规定，流体从下面输送至流体输出件或输出开口。

根据本发明，设置有引自流体储备的流体流出件，该流体流出件设置在周向边缘的下方，或者，流体经由周向边缘下方的流体流出件从流体储备流出。流体流出件可以有利地位于该周向边缘下方数毫米处。在流体输出件周围设置有收集下凹或收集装置，其通过流出开口与流出槽或流出通道连接。由此可以例如为了重新再次应用而排出或去除流体。此外设置有引入到用于流体的分布通道中的流入道，其中该分布通道引导液体地与设置于其上方的流体输出件连接，以便输送流体。该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元，它尤其可以作为整体装入到前述设备中。可以特别有利地将多个这种结构单元彼此平行地且间隔开地设置在设备中。

这种装置的优点在于，一方面可以用流体基本上无接触地将基底底面润湿。另外由此可以把流入道或流体输入件整合到流体输出件或输出开口上，同时在一个结构单元中使流体流出或输出，在所述输出开口上也有一种由于表面张力而凸形拱曲的流体储备的月牙弯。由于该结构单元基本上封闭地构造，还可以减少或者甚至避免相应挥发性的可能是化学腐蚀性的组分流体气化排出。由此一方面使得装置或设备周围的气氛保持干净，这对工作条件有利。另外还可以在这种设备上设置有气体吸出件，但该吸出件可以构造得比较薄弱，且过滤出的化学腐蚀性组成必须比较少。最后，也可以在整体上明显减少化学药剂的耗用量，这在化学药剂昂贵的情况下大大地节省了成本。

按照本发明的一种有利设计，沿着该装置特别是成一条直线地设置有多个流体输出件或输出喷嘴。在此可以给至少一对流体输出件分别彼此靠近地设置输出开口，尤其是直接并排地设置，更确切地说，还在前述纵向上并排地设置。特别有利的是，在该装置的外端上给各个流体输出件分别设置一个输出开口。因而前述多对流体输出件的间距可以为数毫米，最好小于2cm，而与此同时，两个流体输出件之间的间距可以处于数厘米的范围内，最好为10cm-20cm。如此地分布流体输出件或其输出开口，就可以用流体将基底底面的条状区域润湿。

根据本发明的另一设计，流体输出件可以向上突出于其它装置或其基本上平面的顶面数厘米。突出距离例如可以为2cm-10cm，使得基底底面高出装置一段适宜的距离，而不会造成负面影响。同时，流体输出件无需太高，否则就会不必要地提高构造上的代价。

流体输出件有利地为管式结构，且向上特别是垂直地突出于装置的顶面。在装置的该顶面上有利地围绕流体输出件设置一些前述收集装置或收集下凹。它们可以在顶面下方具有数毫米的深度，使得它们在一定程度上形成小型收集盆，这些收集盆围绕流体输出件布置，且能收集从流体输出件输出的特别是来自流体流出件的流体以便排出。也可以给盆状收集装置构造环绕的壁作为一种盆边缘，以便能收集从输出开口输出的流体。由于要收集的流体量通常不是很大，所以收集下凹具有小的深度或者盆状收集装置具有小的边缘高度就足够了。