[发明专利]一种通孔阳极氧化铝模板的制备方法有效
申请号: | 201210375745.7 | 申请日: | 2012-09-29 |
公开(公告)号: | CN102864476A | 公开(公告)日: | 2013-01-09 |
发明(设计)人: | 宋晔;朱绪飞;蒋龙飞;杨斌 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | C25D11/04 | 分类号: | C25D11/04;C25D11/12 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 朱显国 |
地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阳极 氧化铝 模板 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于电化学技术领域,涉及一种通孔的多孔阳极氧化铝模板的制备方法,具体涉及一种无需特殊后处理,仅通过单面阳极氧化双层复合铝箔,从而得到不带阻挡层的通孔阳极氧化铝模板的简易电化学制备方法。
背景技术
多孔阳极氧化铝(PAA)是一类在适当的电解液中通过电化学阳极氧化得到的,具有规则孔道排布且元胞呈六棱柱密堆积的多孔材料。PAA作为纳米模板材料,具有制备工艺简单、孔密度高、长径比大、孔道排布规则、孔径大小可控等特点,被广泛应用于金属、合金、非金属、非金属氧化物、聚合物等各类材料的低维纳米结构的制备,在非线性光学、纳电子学、电化学等众多领域都具有广阔的应用前景。
就PAA模板的应用而言,大多数情况下需要通孔模板。然而,由于在PAA膜的多孔层底部存在一层致密的氧化铝阻挡层,欲得到通孔的PAA模板必须设法去除这层阻挡层。目前,制备通孔PAA模板的通用方法是:首先采用CuCl2、HgCl2或者SnCl4溶液将制备好的PAA膜底部的铝基体腐蚀溶解掉,得到纯PAA膜;再将其浸泡在磷酸溶液中,通过化学腐蚀法去除PAA膜的阻挡层,最终得到通孔的PAA模板。然而,这种方法在去除铝基体的过程中,不可避免地会在纳米孔洞内带入一些重金属杂质,这可能对模板的应用带来限制。另外,磷酸溶液去除阻挡层的化学腐蚀过程不可控,且PAA膜浸泡在磷酸溶液中孔道亦受到腐蚀,因此此法制备的通孔PAA模板会发生不同程度的扩孔。另一种去除PAA膜阻挡层的方法是所谓的阶梯降压法:根据阻挡层厚度与电压呈正比的原理,通过逐步降低阳极氧化电压,使阻挡层逐步减薄,直至通孔。Furneaux等最早报道了通过阶梯降压法,使磷酸溶液中制备的PAA膜通孔(Furneaux, et al. Nature, 1989, 337: 147)。但该方法必须严格控制降压幅值、电解液温度等工艺参数,整个降压过程十分复杂,耗时较长,并且很难保证阻挡层100%穿孔。因此,多数情况下,仍需要再用磷酸溶液浸泡处理以得到完全通孔的PAA模板。
制备PAA通孔模板还有一种较简便的电化学方法:在高氯酸/甲醇混合液中,以样片为阳极,大面积铝片为阴极,在直流电压下通电很短时间,即可获得较大面积的通孔PAA模板(Yuan, et al. Chem. Mater., 2004, 16: 1841)。但该法对PAA膜层厚度和性质均有要求,且PAA膜阻挡层一侧开孔尺寸很难控制,操作难度很大,电解液不环保,膜孔的形貌尺寸可能有所破坏。
综上所述,目前制备PAA通孔模板的方法,存在各种缺陷,如:重金属杂质污染、去除阻挡层工艺复杂、耗时长、开孔尺寸难以控制和电解液不环保等。因此,寻找一种简便高效地制备PAA通孔模板,且不破坏膜的固有结构和尺寸,同时适用于不同厚度PAA膜的方法,成为迫切需要解决的难点问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种不需要特别后处理,在阳极氧化过程中直接制备出通孔PAA模板的方法。
实现本发明目的的技术解决方案为:一种通孔阳极氧化铝模板的制备方法,包括以下步骤:
步骤1、去除高纯铝箔表面的天然氧化膜;
步骤2、对相叠的两片高纯铝箔进行加压复合,加压压力为5-10 MPa,保压时间为30-60 min;
步骤3、对复合的高纯铝箔进行单面阳极氧化;
步骤4、当阳极氧化曲线上的电压出现突变后,则将恒流阳极氧化的电流减半,或当阳极氧化曲线上的电流出现突变后,则维持恒压阳极氧化的电压不变,再继续氧化半小时后结束;
步骤5、最后,通过机械剥离即获得完全通孔的PAA模板。
步骤1中所述的去除天然氧化膜是将铝箔浸入70℃的2wt %的氢氧化钠溶液中2分钟。
步骤2中所述的加压是采用油压机。
步骤3中所述的被单面阳极氧化的复合铝箔的适宜厚度为20-150 μm。
步骤3中所述的单面阳极氧化可采用温和阳极氧化或高场阳极氧化。
步骤3中所述的单面阳极氧化可采用一次阳极氧化或二次阳极氧化。
本发明与现有技术相比,其显著优点:
(1)第一层铝箔完全氧化并过渡到第二层铝箔后,阻挡层随之转移至第二层铝箔,通过机械剥离,使第一层PAA膜脱离,直接得到通孔状态的PAA模板,无需考虑阻挡层的去除问题。
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