[发明专利]一种电容器超薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种电容器超薄膜的制备方法，其特征在于，依次含有以下步骤：

步骤(1)，以甲苯为溶剂，把嵌段共聚物溶解。所述共聚物在溶液中浓度用重量百分数表示为0.05％～20％；

步骤(2)，使用旋涂法把步骤(1)得到的溶液在平滑的电极表面旋涂成薄膜，膜厚度在10～500纳米之间；

步骤(3)，在步骤(2)得到的薄膜真空干燥12小时，把薄膜制成电容器中的介质膜。

2.根据权利要求书1所述的一种电容器超薄膜的制备方法，其特征在于，嵌段共聚物可使用下述材料：含有聚苯乙烯嵌段的嵌段共聚物，也可以是含有聚苯乙烯嵌段的嵌段共聚物与其中某一嵌段对应的均聚物的混合物。其中苯乙烯体积分数40％～95％。

3.根据权利要求书1所述的一种电容器超薄膜的制备方法，其特征在于，所述溶剂是除了所述甲苯以外，下述溶剂中的一种或两种以上的混合物；四氢呋喃，二氧六环，二甲苯，二氯甲烷，三氯化碳，四氯化碳，环己烷，二硫化碳。

4.根据权利要求书1所述的一种电容器超薄膜的制备方法，其特征在于，所述聚合物在溶液中的浓度为0.05％～20％。(重量百分数)。

5.根据权利要求书1所述的一种电容器超薄膜的制备方法，其特征在于，所述的旋涂法是指将高分子溶液平铺在平滑的固体表面，转速控制在每分钟450～5000转范围，采用平滑的电极表面。介质膜厚度在10～500纳米范围。