[发明专利]钻石镀真空薄膜的制作方法无效
| 申请号： | 201210396896.0 | 申请日： | 2012-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103774094A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 刘红彪;易宁;李华志 | 申请（专利权）人： | 东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华清光学科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/02;C23C14/58;B05D5/06 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 罗晓林;李志强 |
| 地址： | 523878 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 钻石 真空 薄膜 制作方法 | ||
1.一种钻石镀真空薄膜的制作方法，包括如下步骤：
1）底漆喷涂，所述底漆工艺中使用的底漆中添加有锆英粉，喷涂的底漆厚度控制在10μm～14μm之间，底漆粘度控制在 7.3～7.6秒之间；
2）钻石镀膜，所镀膜靶材中掺有锆石，镀膜工艺采用不导电镀，镀膜厚度控制在35nm以内；
3）中漆喷涂；
4）面漆喷涂，面漆中掺有哑浆，面漆厚度控制在12μm～16μm之间。
2.根据权利要求1所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：步骤（1）中锆英粉所占的重量百分比为0.1%～3%。
3.根据权利要求1所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：步骤（4）中哑浆所占重量百分比为15%～20%。
4.根据权利要求1所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：所述镀膜靶材中锆石所占重量百分比为5%～15%。
5.根据权利要求4所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：所述镀膜靶材主要成分为85%～95%的In-Sn合金及5%～15%的锆石。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：步骤（3）所述中漆喷涂的厚度为6μm～8μm。
7.根据权利要求6所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：本工艺所选基材主要为ABS塑料、PC材料或PA材料。
8.根据权利要求7所述的钻石镀真空薄膜的制作方法，其特征在于：步骤（2）中所述镀膜类型为蒸发镀膜。
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