[发明专利]钻石镀真空薄膜的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及本发明涉及一种镀膜工艺，具体地讲，涉及一种钻石镀真空薄膜的制作方法。 

背景技术

    真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。 

现有技术中的普通真空不导电镀膜虽然能够使得产品表面表现出金属质感，但也仅限于此，无法体现金属颗粒状的立体感和闪耀感。 

发明内容

本发明的目的在于提供一种产品表面具有多样化的金属哑光与立体效果的镀膜工艺。 

本发明是通过以下技术方案来实现的： 

所述钻石镀真空薄膜的制作方法包括如下步骤：

1）底漆喷涂，所述底漆工艺中使用的底漆中添加有锆英粉，喷涂的底漆厚度控制在10μm～14μm之间，底漆粘度控制在 7.3～7.6秒之间；

2）钻石镀膜，所镀膜靶材中掺有锆石，镀膜工艺采用不导电镀，镀膜厚度控制在35nm以内；

3）中漆喷涂；

4）面漆喷涂，面漆中掺有哑浆，面漆厚度控制在12μm～16μm之间。

其主要有益效果在于：锆英粉及锆石的添加有助于显著增强产品表面的立体效果，同时，采取不导电镀的工艺可以结合传统真空镀膜技术的特性，采用新的镀膜技术做出与普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果，起到美化工件表面之功效。底漆及面漆所采用的厚度数据适中，在不导电镀工艺中容易实现，而且可以显著增强产品的立体感。 

下面对本发明的技术方案进行进一步阐述： 

为了达到最好的表面效果，技术人员经反复测试测试得出的优选材料配比如下：步骤（1）中锆英粉所占的重量百分比为0.1%～3%。其最优方案为中为1%。步骤（4）中哑浆所占重量百分比为15%～20%，其最佳比例为17%。所述镀膜靶材中锆石所占重量百分比为5%～15%，其最佳方案中为10%。在此基础上，所述镀膜靶材主要成分为85%～95%的In-Sn合金及5%～15%的锆石，优选采用重量百分比为90%的In-Sn合金及10的锆石配比。

在本工艺过程中，中漆可以起到加色的作用，通过彩色原料实现产品表面的色泽多样化，同时为了配合立体感达到最佳效果，优选方案中步骤（3）所述中漆喷涂的厚度为6μm～8μm。 

本发明的主要应用方面为设备的外壳，作为优选的方案配合这一用途，本工艺所选基材主要为ABS塑料、PC材料或PA材料。 

另外，在工艺过程中，蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，便于镀制单质和不易热分解的化合物膜，因此作为优选方案，步骤（2）中所述镀膜类型为蒸发镀膜。 

具体实施方式

实施例1 

所述钻石镀真空薄膜的制作方法包括如下步骤：

1）底漆喷涂，所述底漆工艺中使用的底漆中添加有锆英粉，喷涂的底漆厚度控制在13μm，底漆粘度控制在 7.5秒；

2）钻石镀膜，所镀膜靶材中掺有锆石，镀膜工艺采用不导电镀，镀膜厚度控制在33nm；

3）中漆喷涂；

4）面漆喷涂，面漆中掺有哑浆，面漆厚度控制在14μm。

实施例2 

选用PC材料作为电镀基材，制作步骤按实施例1中所述进行，

其中原料配比方面，步骤（1）中锆英粉所占重量百分比采用优选的1%，步骤（4）中哑浆所占重量百分比约为17%。所述镀膜靶材中锆石所占重量百分比为10%。同时步骤（2）中所述镀膜类型为蒸发镀膜，

 实施例3

选用ABS塑料作为电镀基材，所述钻石镀真空薄膜的制作方法包括如下步骤：

1）底漆喷涂，所述底漆工艺中使用的底漆中添加有锆英粉，喷涂的底漆厚度控制在11，底漆粘度控制在 7.2秒；

2）钻石镀膜，所镀膜靶材中掺有锆石，镀膜工艺采用不导电镀，镀膜厚度控制在28nm；

3）中漆喷涂；

4）面漆喷涂，面漆中掺有哑浆，面漆厚度控制在15μm。

步骤（2）中所述镀膜类型为蒸发镀膜。 

在原料配比方面，步骤（1）中锆英粉所占重量百分比采用优选的1%，步骤（4）中哑浆所占重量百分比约为17%。所述镀膜靶材主要成分为重量百分比为90%的In-Sn合金及10%的锆石。 

实施例4