[发明专利]一种新型PECVD设备专用C/C载板挂钩无效
申请号: | 201210403087.8 | 申请日: | 2012-10-22 |
公开(公告)号: | CN102899639A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 江苏荣马新能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 张惠忠 |
地址: | 223700 江苏省宿*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 pecvd 设备 专用 挂钩 | ||
技术领域
本发明涉及一种太阳能电池片的生产设备,具体涉及一种板式PECVD所使用的C/C载板的挂钩设计。
背景技术
板式PECVD(等离子体增强化学气相沉积法)工艺运行时,硅片通过载板上的挂钩定位后传送进入PECVD设备腔体完成镀膜工艺。
现有的挂钩结构如图2、图3所示,在以“下成膜”方式的PECVD设备中,挂钩与载板的安装方式见图1。由于沉相气体是由下向上运动,在硅片下表面沉膜,因此在这个方向上挂钩会遮挡掉一部气体,因而在硅片表面相应部位造成沉膜不均,形成一个镀膜斑点(见图8b),而且该镀膜斑点的面积大,从而影响电池片的外观质量。并且镀膜斑点在电池片的有效区域内(镀膜斑点位于电池片的栅线内),因此影响了电池片的质量和绝缘性能。同时由于挂钩与硅片的接触部分非常尖锐,且在沉膜的过程中一直与硅片牢牢接触,因而会造成在这个接触点上完全没有沉膜,从而造成电池片绝缘性能降低。同时挂钩与载板安装好后,拆卸挂钩时,容易损伤载板。
发明内容
本发明针对上述问题的不足,提出一种镀膜斑点偏离电池片的有效区域,而且斑点面积小、绝缘性能高,同时载板易拆卸安装的新型PECVD设备专用C/C载板挂钩。
本发明为解决上述技术问题提出的技术方案是:一种新型PECVD设备专用C/C载板挂钩,用于硅片的定位,包括由下部开口的方形框架制成的第一、第二挂钩支架;所述方形框架的两支臂的下端内侧均设置有一个可转动的顶片,且两个顶片相对设置;所述第一挂钩支架的方形框架的两支臂的低端分别向外设置有用于硅片的定位的第一挂钩、第二挂钩,所述第二挂钩支架的方形框架的一支臂的低端向外设置有用于硅片的定位的第三挂钩;且第一挂钩、第二挂钩、第三挂钩与硅片接触的一面为斜坡面,同时所述斜坡面的倾斜方向均与方形框架的顶端相背离。
优选的:所述斜坡面的表面呈阶梯状。
优选的:所述斜坡面与载板之间的倾斜角度为33°-35°。
优选的:所述固定杆均为上细下宽。
优选的:所述挂钩支架的底面为曲面。
优选的:所述挂钩支架的下部所有交接面均为圆弧过渡。
优选的:所述第一挂钩、第二挂钩均为S316不锈钢制作的挂钩。
本发明的新型PECVD设备专用C/C载板挂钩,相比现有技术,具有以下有益效果:1.由于包括由下部开口的方形框架制成的第一、第二挂钩支架;所述方形框架的两支臂的下端内侧均设置有一个可转动的顶片,且两个顶片相对设置,因此在安装过程中,只需通过旋转顶片即可有效将第一、第二挂钩支架安装固定在载板上,因此安装或者拆卸过程中对载板的损伤小。
2. 由于所述第一挂钩支架的底侧的两端分别设置有第一挂钩、第二挂钩,所述第二挂钩支架的底侧的一端设置有第三挂钩,且第一挂钩、第二挂钩、第三挂钩与硅片接触的一面为斜坡面,同时所述斜坡面的倾斜方向与挂钩支架的顶端相背离,因此使用时硅片只有其下边沿与挂钩接触,从而使得镀膜斑点偏离电池片的有效区域,且斑点面积也大为缩小,有利于提高电池片的质量,同时也大大改善了电池片绝缘性能。
3. 由于所述斜坡面的表面呈阶梯状,因此硅片在挂钩上不会滑动,大大方便了生产人员上下片的操作,同时减少了硅片在载板上脱钩的概率。
4.由于所述固定杆均为上细下宽,上部的截面尺寸较小,因而较容易变形,方便了挂钩的安装固定。
5. 由于所述挂钩支架的底面为曲面,因此确保挂钩结构强度的前提下,能够减小挂钩的截面积,因而提高腔内流的流动性,从而能够减小挂钩对工艺气流的影响。
6.由于所述挂钩支架的下部所有交接面均为圆弧过渡,因此能够避免挂钩因结构上有尖锐部分而产生高压放电。
附图说明
图1是现有的挂钩与载板的安装结构示意图;
图2是图1中3'的结构示意图,其中图2a是图1中3'的放大示意图,图2b是图2a的左视图;
图3是图1中4'的结构示意图,其中图3a是图1中4'的放大示意图,图3b是图3a的左视图;
图4是本发明实施例的结构示意图;
图5是图4中3的结构示意图;
图6是图4中4的结构示意图;
图7是图4中A部分的放大示意图;
图8是挂钩沉膜效果图,其中图8a是本发明挂钩沉膜效果图,图8b现有挂钩沉膜效果图;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的