[发明专利]溅镀靶材及可写录光记录媒体

说明书

技术领域

本发明为一种用于制备光记录媒体的溅镀靶材以及使用溅镀靶材的光记录媒体，特别是指一种可写录光记录媒体。

背景技术

光记录储存技术是利用雷射光技术将数据记录在光记录媒体中。在目前市面上的可写录光盘，大多以有机染料做为记录层材料，透过一定刻录功率的雷射进行刻录，致使记录层的有机染料产生裂解或变形，造成刻录区域与未刻录区域的间的反射率差异，利用此反射率的差异，便可以运用适当功率的雷射将储存于光盘片的数据读取出来。

由于有机染料吸收光波长的范围较窄，造成特定染料仅适用于特定的波长范围，对于目前蓝光光记录媒体所使用的短波长(405纳米)雷射光源，可应用的有机染料种类较少，且制程上因为蓝光光盘片的基板轨距较小，故使用有机染料较难涂布均匀。所以近年来已有人提出利用金属或半金属等无机材料来取代有机染料，作为可写录光盘的记录层材料。

发明内容

针对上述技术的不足之处，本发明为了克服使用有机染料仅能应用在狭窄的雷射光波长范围，造成特定染料仅适用于特定的波长范围的问题，提供了一种具有高稳定性、在可见光波长范围具有高光吸收率，且可通过各种波长的激光脉冲加热使薄膜界面型态或微结构产生变化，进而导致反射率产生改变的无机可写录光记录媒体记录层材料的溅镀靶材以及其对应的可写录光记录媒体。

本发明目的之一是利用无机材料作为可写录光记录媒体记录层材料的溅镀靶材，至少包含有铜(Cu)、硅(Si)以及铬(Cr)，且所述靶材为结晶质型态。所述记录层主要是通过溅镀沉积而成的金属或半金属薄膜经由雷射光照射后，在记录点区域产生接口反应而造成微结构的变化，使得反射率发生改变，进而达到数位讯号记录的目的。

本发明的另一目的是提供一种可写录光记录媒体，可利用基板相反侧入射的激光束进行数据读写，若配合膜层结构的调整，也可利用在基板侧入射的激光束进行数据读写，其沉积于所述基板上的膜层结构为一种可写录光记录媒体的结构，其包含反射层、第一缓冲层、记录层、第二缓冲层、补偿层以及光穿透层。所述结构包括所述基板、在所述基板上的所述反射层、在所述反射层上的所述第一缓冲层、在所述第一缓冲层上的所述记录层、在所述记录层上的所述第二缓冲层、在所述第二缓冲层上的所述补偿层以及最上层的所述光穿透层，所述结构的光记录媒体可透过予以照射激光束于所述光穿透层侧，以进行数据读写。所述单一膜层的记录层在受到激光束照射后，会吸收激光束并产生局部显微结构的变化，并通过界面元素相互扩散进而形成混合区域。由于薄膜的结构不同，因此受激光束加热所形成的混合区域与未受激光束加热的未混合区域有明显的反射率差异，因此能够通过所述反射率差异来达到记录数据的目的。

附图说明

图1为可写录光记录媒体的结构示意图。

图2为可写录光记录媒体写入功率与调变值(modulation)的动态测试结果。

图3为可写录光记录媒体写入功率与抖动值(jitter)的动态测试结果。

图4为不同元素以及不同组成比例的记录层材料的电气特性比较表。

主要组件符号说明

10基板

20反射层

30第一缓冲层

40记录层

50第二缓冲层

60补偿层

70光穿透层

80激光束

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。

为充分了解本发明的目的、特征及功效，由下述具体的实施例，并配合附图，对本发明做一详细说明，说明如下：

本发明提供一种利用无机材料作为可写录光记录媒体记录层材料的溅镀靶材，至少包含有铜(Cu)、硅(Si)以及铬(Cr)，且所述靶材为结晶质型态。其中所述溅镀靶材可以分别为铜(Cu)、硅(Si)及铬(Cr)各别元素压制成单一靶材；另可以分别为铜(Cu)及硅(Si)合金与铬(Cr)元素压制成单一靶材；又可以分别为铜(Cu)元素与硅(Si)及铬(Cr)合金压制成单一靶材；更可以分别为硅(Si)元素与铜(Cu)及铬(Cr)合金压制成单一靶材。