[发明专利]一种硅原料的清洗方法有效
申请号: | 201210405111.1 | 申请日: | 2012-10-23 |
公开(公告)号: | CN103769383A | 公开(公告)日: | 2014-05-07 |
发明(设计)人: | 张凌松 | 申请(专利权)人: | 宿迁宇龙光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B3/08 |
代理公司: | 淮安市科文知识产权事务所 32223 | 代理人: | 谢观素 |
地址: | 223700 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原料 清洗 方法 | ||
1.一种硅原料的清洗方法,其特征在于包括以下步骤:
1)将硅原料放入清水池内预冲洗,并在冲洗后对硅原料的表面进行检测;
2)根据检测:将表面无附着物的硅原料送入超声设备中清洗,将表面有少许杂质的硅原料放入酸液池酸洗,将表面杂质较多的硅原料放入浓酸液池内浸泡1-3小时;
3)将经过酸液洗或酸液浸泡的硅原料放入清水池中进行冲洗,冲洗后对硅原料表面进行观察;
4)根据观察:将表面没有残留污垢的硅原料进行超声清洗,将表面仍有残留污垢的硅原料放入碱液池内进行碱洗;
5)将经过碱洗的硅原料放入清水池中进行冲洗,之后再将硅原料送入超声设备中清洗。
2.如权利要求1所述的一种硅原料的清洗方法,其特征在于:清洗和浓酸液浸泡池依次排序为:碱液池、清水池、浓酸液池、酸液池、超声设备。
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