[发明专利]太阳能电池用锗单晶生长的掺杂方法有效
申请号: | 201210407264.X | 申请日: | 2012-10-23 |
公开(公告)号: | CN102877121A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 王侃;吴绍华;子光平;符世继;李睿;韩帅民;彭明清;侯明;陈骥;李茂忠 | 申请(专利权)人: | 云南北方驰宏光电有限公司 |
主分类号: | C30B15/04 | 分类号: | C30B15/04;C30B29/08 |
代理公司: | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人: | 赛晓刚 |
地址: | 650223 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 用锗单晶 生长 掺杂 方法 | ||
技术领域
本发明属于添加掺杂材料的单晶生长技术领域,特别涉及一种锗单晶生长的掺杂方法。
背景技术
太阳能电池锗单晶主要是在高纯锗中掺杂3价或5价元素,控制锗单晶的电阻率小于0.05Ω.cm,太阳能电池用锗单晶的掺杂剂主要是镓和铟。但是,由于镓和铟在锗中的分凝系数较小,在拉晶过程中得到的锗单晶电阻率分布不均匀,使锗单晶的轴向电阻率变化太大,不利于工业化生产。目前的掺杂方法主要用掺杂勺补加掺杂剂,这使掺杂剂在区熔锗融化后,不能达到均匀混合使掺杂剂浓度的均匀性受到影响,导致掺杂剂与区熔锗锭不能按比例混合,达不到目标电阻率的要求。这种掺杂方法没有从根本上解决掺杂剂在锗中均匀分布的难题,存在需多次掺杂,操作复杂,容易导致炉体漏气等弊端。
发明内容
针对现有掺杂方法存在的不足,本发明提供一种太阳能电池用锗单晶生长的掺杂方法,克服了用掺杂勺补加掺杂剂,存在多次掺杂,操作复杂,炉体漏气的弊端,一次掺杂就可使掺杂剂在单晶中能均匀分布。
本发明所述的太阳能电池用锗单晶生长的掺杂方法,其特征在于步骤如下:
步骤一,清洗干燥:将称好的高纯锗放在清洗机热水槽内,升温至40℃~65℃,然后将其依次放入热水酸泡槽、超声溢流槽,清洗至无残酸,取出放入不锈钢盘中,将洗好的锗放入干燥箱中,设定加热温度为100℃~120℃,恒温2~3小时,冷却后取出;
步骤二,装料:将清洗干燥后的高纯锗装入单晶炉内的坩埚中,然后将掺杂剂放在高纯锗间;
步骤三,抽真空:启动控制系统开始抽真空,待漏率检验合格,设置氩气流量为5~60sltm/min;
步骤四,加热:打开加热器,升温化料;
步骤五,初步混合:当坩埚内的原料全部融化后控制坩埚转速为3~10转/分钟,以0.2~0.8转/分钟的速度提高转速,20~60分钟后,以0.5~2转/分钟的速度降低转速,如此反复3次及以上即达到掺杂元素在锗中的初步混合;
步骤六,降温:降低炉温至939~948℃;
步骤七,均匀混合:将籽晶放下接触锗熔体,将籽晶转速控制在5~20转/分钟,旋转方向与坩埚旋转方向相反,控制坩埚转速3~10转/分钟,以0.2~0.8转/分钟的速度提高转速,20~60分钟后,以0.5~2转/分钟的速度降低转速,如此反复3次及以上即达到掺杂元素在锗中的均匀混合。
本发明所使用的掺杂剂:可以是Ga、In、As、Sb等的一种或几种。
本发明的有益效果为:该方法操作简单,只需一次掺杂,就能使掺杂剂在太阳能电池用锗单晶中均匀分布,锗单晶的电阻率均匀分布,轴向电阻率变化小,利于工业化生产;通过测试,锗单晶电阻率在0.001~0.003Ω·cm,可达到太阳能电池用锗单晶电阻率均匀分布的要求。
附图说明
图1太阳能电池用锗单晶掺杂工艺流程框图;
图2未使用本发明工艺的锗单晶电阻率纵向分布示意图;
图3使用本发明工艺后锗单晶电阻率纵向分布示意图;
图4使用本发明的方法生长太阳能锗单晶时的图像;
图5使用本发明的方法得到的太阳能锗单晶的实物图。
具体实施方式
以下结合附图,通过实施例对本发明做进一步详细说明。
实施例一:
本例是运用本发明方法在锗单晶中掺杂Ga的实施例,其步骤如下:
步骤一,将称好的高纯锗锭放在清洗机热水槽内,升温至50℃,然后将其依次放入热水酸泡槽、超声溢流槽,清洗至无残酸,取出放入不锈钢盘中。将洗好的锗锭放入干燥箱中,设定加热温度为100℃,恒温2小时,冷却后取出;
步骤二,将清洗干燥后的高纯锗装入单晶炉内的坩埚中,然后将掺杂剂Ga放在高纯锗间;
步骤三,启动控制系统开始抽真空,待漏率检验合格,设置氩气流量为30sltm/min;
步骤四,打开加热器,升温化料;
步骤五,当坩埚内的原料全部融化后控制坩埚转速为3转/分钟,以0.2转/分钟的速度提高转速,20分钟后,以0.5转/分钟的速度降低转速,如此反复3次即达到Ga在锗中的初步混合;
步骤六,降低炉温至940℃;
步骤七,将籽晶放下接触锗熔体,将籽晶转速控制在5转/分钟,旋转方向与坩埚旋转方向相反,控制坩埚转速3转/分钟,以0.2转/分钟的速度提高转速,20分钟后,以0.5转/分钟的速度降低转速,如此反复3次即达到Ga在锗中的均匀混合。
实施例二:
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