[发明专利]电子照相感光体、处理盒和图像形成设备在审
申请号: | 201210411791.8 | 申请日: | 2012-10-25 |
公开(公告)号: | CN103309179A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 井手健太;成田幸介;川崎晃弘;杉浦聪哉;野中聪洋;中村博史;小关一浩;桥场成人 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G5/14 | 分类号: | G03G5/14;G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 处理 图像 形成 设备 | ||
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。
背景技术
近年来,电子照相图像形成已被广泛用于如复印机和激光打印机等图像形成设备。
例如,日本专利第4466406号(专利文献1)提出“一种电子照相感光体,所述感光体具有位于导电性基板上的含有金属化合物颗粒和粘合剂树脂的底涂层和感光层,并且其中所述底涂层的表面的平均粗糙度(Ra)为0.05μm以上,不均匀度的平均间隔(RSm)为150μm以下,整个底涂层在780nm的透射率和漫反射率均为15%以下”。
JP-A-2000-066430(专利文献2)提出“一种电子照相感光体,其中对于电子照相设备的曝光波长,中间层的透射率为20%以上”。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种具有高抗光疲劳性的电子照相感光体。
根据本发明的第一方面,提供一种电子照相感光体,所述感光体包含:导电性支持体;底涂层,所述底涂层设置在该导电性支持体上且厚度为15μm~40μm,并且当厚度为至少15μm时对于波长为450nm的光具有20%以下的透光率;电荷生成层,所述电荷生成层设置在该底涂层上;和电荷输送层,所述电荷输送层设置在该电荷生成层上且厚度为15μm~40μm,并且当厚度为至少15μm时对于波长为450nm的光具有30%以下的透光率。
本发明的第二方面提供如第一方面所述的电子照相感光体,其中,所述底涂层在厚度为15μm时对于波长为450nm的光的透光率为5%~15%。
本发明的第三方面提供如第一方面所述的电子照相感光体,其中,所述底涂层在厚度为15μm时对于波长为450nm的光的透光率为10%~15%。
本发明的第四方面提供如第一方面所述的电子照相感光体,其中,所述底涂层含有金属氧化物和电子接受性化合物,并且相对于100重量份所述金属氧化物的颗粒,所述电子接受性化合物的含量为1重量份~5重量份。
本发明的第五方面提供如第一方面所述的电子照相感光体,其中,所述底涂层含有金属氧化物和电子接受性化合物,并且相对于100重量份所述金属氧化物的颗粒,所述电子接受性化合物的含量为2重量份~4重量份。
本发明的第六方面提供如第一方面所述的电子照相感光体,其中,所述电荷输送层在厚度为15μm时对于波长为450nm的光的透光率为10%~25%。
本发明的第七方面提供如第一方面所述的电子照相感光体,其中,所述电荷输送层在厚度为15μm时对于波长为450nm的光的透光率为15%~20%。
本发明的第八方面提供如第一至第七方面中任一方面所述的电子照相感光体,其中,所述电荷输送层包含由下式1表示的电荷输送材料:
其中,在式1中,R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地表示氢原子、卤原子、具有1~20个碳原子的烷基、具有1~20个碳原子的烷氧基,或者具有取代基或不具有取代基的具有6~30个碳原子的芳基,两个彼此相邻的取代基可以彼此键合形成烃环结构,并且n和m各自独立地表示1或2。
本发明的第九方面提供如第八方面所述的电子照相感光体,其中,在式1中,由R1、R2、R3、R4、R5和R6表示的烷基选自甲基、乙基、丙基、丁基、辛基、十八烷基、异丙基和叔丁基。
本发明的第十方面提供如第八方面所述的电子照相感光体,其中,在式1中,R1、R2、R3、R4、R5和R6选自氢原子或甲基。
本发明的第十一方面提供如第一至第十方面中任一方面所述的电子照相感光体,其中,所述底涂层包含由下式2表示的电子接受性化合物:
其中,在式2中,R11表示氢原子或烷基,并且n1表示0或1的整数。
根据本发明的第十二方面,提供一种处理盒,所述处理盒可以与图像形成设备分离,其至少包含根据第一至第十一方面中任一方面所述的电子照相感光体。
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