[发明专利]一种提高光刻机工件台定位精度的方法有效

专利信息
申请号: 201210425938.9 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN103792792A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 高艳玲;王健 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 提高 光刻 机工 定位 精度 方法
【权利要求书】:

1.一种提高工件台定位精度的方法,包括如下步骤:

步骤1,将带有多个标记对的测试基底上载到旋转台上;

步骤2,获取所述标记对在旋转台旋转前的位置;

步骤3,设置旋转台旋转角度α;

步骤4,获取旋转台旋转后所述标记对的位置;

步骤5,依据旋转前和旋转后的标记对的位置,分别计算旋转台的多个旋转中心位置; 

步骤6,将计算得到的所述多个旋转中心位置求取均值,得到实际的旋转台旋转中心位置;

步骤7,保存实际的旋转台旋转中心位置,用于在工件台运动中进行补偿;

步骤8,卸载测试基底,完成测试。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述标记对位于测试基底中心到边缘距离的2/3处。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述每个标记对与测试基底中心连线成直角。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述旋转台旋转角度α取620urad以上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210425938.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top