[发明专利]一种提高光刻机工件台定位精度的方法有效
申请号: | 201210425938.9 | 申请日: | 2012-10-31 |
公开(公告)号: | CN103792792A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 高艳玲;王健 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 光刻 机工 定位 精度 方法 | ||
1.一种提高工件台定位精度的方法,包括如下步骤:
步骤1,将带有多个标记对的测试基底上载到旋转台上;
步骤2,获取所述标记对在旋转台旋转前的位置;
步骤3,设置旋转台旋转角度α;
步骤4,获取旋转台旋转后所述标记对的位置;
步骤5,依据旋转前和旋转后的标记对的位置,分别计算旋转台的多个旋转中心位置;
步骤6,将计算得到的所述多个旋转中心位置求取均值,得到实际的旋转台旋转中心位置;
步骤7,保存实际的旋转台旋转中心位置,用于在工件台运动中进行补偿;
步骤8,卸载测试基底,完成测试。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述标记对位于测试基底中心到边缘距离的2/3处。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述每个标记对与测试基底中心连线成直角。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述旋转台旋转角度α取620urad以上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210425938.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。