[发明专利]一种Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法

权利要求书

1.一种Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法，其方法步骤如下：

（1）原料准备：取纯度为99.96%的电解镍、纯度为99.09%的金属铬、稀土0.52kg；

（2）真空熔炼：去除镍和铬板材表面污垢及氧化物并干燥称重，按Ni和Cr的重量比为4:1，称取电解镍103.76kg，取金属铬26.24kg，熔炼温度为1450-1550℃，熔炼时间为60min，熔炼过程中环境真空度低于8Pa，出炉前在真空和氩保护气氛下加入0.05~0.4wt.%稀土元素；

（3）浇注：在真空和氩气保护气氛下进行浇注，浇注后40min脱模，切除冒口，去除表面氧化皮，加工后的铸锭呈一圆台，小头直径为130~135mm，大头直径为160mm，高度为520mm；

（4）热锻：采用1吨自由锻空气锤对铸锭进行锻造，始锻温度为1275℃，终锻温度为1000℃，铸锭加热到始锻温度后保温30min，铸锭最终热锻成宽120mm，厚度为38-100mm的板；

（5）轧制：对热锻坯料表面清洗后进行轧制，使其厚度变为20mm，宽度120mm，轧制形变量为47.4%~80%；

（6）退火：820℃保温60min；

（7）机加工：进行机加工，制成所需尺寸的靶材。

2.根据权利要求1所述的Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于所述的Ni-Cr靶材的晶粒度小于80                                               至小于25，且晶粒大小分布均匀。

3.根据权利要求1所述的Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤（2）中所述的稀土组成为34.1wt.%La、65.74wt%Ce，余量为杂质。