[发明专利]一种去除光阻残留物的清洗液

权利要求书

1.一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液包括醇胺，有机溶剂，没食子酸及其酯以及3-氨基-1,2,4-三氮唑。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量为5-50wt%。

3.如权利要求2所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量为10-45wt%。

4.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述有机溶剂的含量为40-90wt%。

5.如权利要求4所述的清洗液，其特征在于，所述有机溶剂的含量为50-85wt%。

6.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述没食子酸及其酯的含量为0.05-5wt%。

7.如权利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述没食子酸及其酯的含量为0.1-3wt%。

8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述3-氨基-1,2,4-三氮唑的含量为0.01-5wt%。

9.如权利要求8所述的清洗液，其特征在于，所述3-氨基-1,2,4-三氮唑的含量为0.05-3wt%。

10.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺选自单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一种或多种。

11.如权利要求10所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺选自乙醇胺、二甘醇胺及其混合物。

12.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有机溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。

13.如权利要求12所述的清洗液，其特征在于，所述的亚砜选自二甲基亚砜和甲乙基亚砜中的一种或多种；所述的砜选自甲基砜、环丁砜中的一种或多种；所述的咪唑烷酮选自2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一种或多种；所述的吡咯烷酮选自N-甲基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮和N-羟乙基吡咯烷酮中的一种或多种；所述的咪唑啉酮选自1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺选自二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一种或多种；所述的醇醚选自乙二醇烷基醚、丙二醇烷基醚中的一种或多种。

14.如权利要求13述的清洗液，其特征在于，所述的乙二醇烷基醚为乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚和二乙二醇单丁醚中的一种或多种；所述的丙二醇烷基醚为丙二醇单甲醚、丙二醇单丁醚和二丙二醇单甲醚中的一种或多种。

15.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的没食子酸及其酯选自没食子酸、没食子酸甲酯、没食子酸乙酯、没食子酸丁酯、没食子酸辛酯、没食子酸月桂酯、1-没食子酸甘油酯中的一种或多种。

16.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液不含有有水、羟胺和/或氟化物。