[发明专利]一种ITO的清洗工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种ITO的清洗工艺，属于LED生产领域。

背景技术

    LED为当今照明领域中最为节能环保的照明工具之一，但是由于在国内LED行业刚刚兴起，技术不是很成熟，尤其是掉电极现象更为严重，成为限制LED良率提高的瓶颈之一，掉电极现象出现的主要原因是ITO表面清洁度不高，怎么提高ITO表面的清洁度，是目前行业的生产中面临的主要难题之一。

发明内容

本发明针对现有技术存在的不足，提供一种ITO的清洗工艺。 

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种ITO的清洗工艺，其特征在于，蒸镀电极前，增加刻蚀液清洗工艺，所述清洗工艺步骤如下：首先将待清洗的芯片放入芯片花篮中；将花篮放入盛放缓冲刻蚀液的槽中浸泡15秒；取出花篮，将其放入盛放有纯水的槽中浸泡15分钟；浸泡完成后，取出花篮，将其放入甩干机中甩干。

本发明的有益效果是：本发明通过在蒸镀电极前增加刻蚀液清洗工艺，能够将待光刻的芯片上的污染物清洗掉，从而保证了芯片表面的清洁度，增加了电极的牢固性，减少掉电极的现象，提高了芯片的良率。

具体实施方式

以下对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。

一种ITO的清洗工艺，其特征在于，蒸镀电极前，增加刻蚀液清洗工艺，所述清洗工艺步骤如下：首先将待清洗的芯片放入芯片花篮中；将花篮放入盛放缓冲刻蚀液的槽中浸泡15秒；取出花篮，将其放入盛放有纯水的槽中浸泡15分钟；浸泡完成后，取出花篮，将其放入甩干机中甩干。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。