[发明专利]含硅的有机发光材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201210457333.8 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103102877A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 马晓宇;李文军 | 申请（专利权）人： | 吉林奥来德光电材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/06 | 分类号： | C09K11/06;C07F7/08;C07F7/10;H01L51/54 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机 发光 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.含硅的有机发光材料，其特征在于，该有机发光材料的结构通式如式（1）所示：
式（1）
其中，A为C9-C18的稠环芳基、C8-C18的芳族杂环基或三芳胺基。
2.如权利要求1所述的含硅的有机发光材料，其特征在于，其中A为2-萘基、9,9-二甲基-2-芴基、5-苯并呋喃基、3-苝基、N-苯基-3-咔唑基、2-茚基或2-芘基。
3.如权利要求1或2所述的含硅的有机发光材料的制备方法，其特征在于，该制备方法的具体步骤和条件如下：
按摩尔比为1：0.7~1.5称取双（４-溴苯基）二苯基硅烷与含A取代基的蒽类硼酸；
加入四（三苯基磷）钯、碳酸钠和溶剂，四（三苯基磷）钯与双（４-溴苯基）二苯基硅烷的摩尔比为1：20~1000，碳酸钠与双（４-溴苯基）二苯基硅烷的摩尔比为1~4：1；
对反应体系脱气；
将反应体系的温度升至70~100℃，回流反应24~30小时；
冷却，抽滤、洗涤、干燥后，得到所述的含硅的有机发光材料。
4.如权利要求3所述的含硅的有机发光材料的制备方法，其特征在于，加入的溶剂为四氢呋喃。
5.如权利要求3所述的含硅的有机发光材料的制备方法，其特征在于，脱气后将反应体系的温度升至80 ~90℃。
6.如权利要求5所述的含硅的有机发光材料的制备方法，其特征在于，回流反应时间为26~28小时。
7.如权利要求1或2所述的含硅的有机发光材料的应用，其特征在于，该材料可作为发光材料、发光主体材料或传输材料，应用在电致发光器件上。
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