[发明专利]一种氨基吡啶BOC保护的方法有效

专利信息
申请号: 201210464133.5 申请日: 2012-11-15
公开(公告)号: CN102936220A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: 王力强;王永国;刘海涛;梁建军 申请(专利权)人: 河北桑迪亚医药技术有限责任公司
主分类号: C07D213/75 分类号: C07D213/75
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 苏艳肃
地址: 050000 河北省石家庄*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 氨基 吡啶 boc 保护 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种氨基吡啶BOC保护的方法。

背景技术

BOC保护的氨基吡啶在有机合成中具有广泛应用。一般这类化合物的合成大多数是通过氨基吡啶与(BOC)2O或氨基吡啶与(BOC)2O、DMAP在碱性条件下反应。但现有工艺存在如下缺陷:部分氨基吡啶不发生反应或反应收率很低或有双BOC取代的产物。

发明内容

本发明的目的是开发一种工艺简便、收率高、反应选择性好的方法。

技术方案:

氨基吡啶BOC保护的方法包括以下步骤:以氨基吡啶和(BOC)2O在EDCI、HOBT和碱存在下溶于溶剂进行反应,得到BOC保护的氨基吡啶,反应式如下:

上述反应式中,所述氨基吡啶中的氨基处在吡啶环上任意一个碳原子上,所述R为吡啶环上的供电子取代基,所述溶剂为四氢呋喃,二氯甲烷,甲醇或1,4-二氧六环中的一种。

本发明优选的技术方案为:

所述氨基吡啶︰(BOC)2O︰EDCI︰HOBT︰碱的摩尔比为1︰1.5-2︰1.5-3︰0.05-0.1︰1.5-3。

所述碱为三乙胺。

所述BOC保护反应在室温、搅拌状态下反应至终点,后处理制得纯产品。

所述反应终点以TLC跟踪,至原料消失为终点。

所述后处理工艺为:反应液经水洗,有机层干燥,过滤浓缩,柱层析得纯产品。

所述反应时间为0.5-2小时。

所述R为甲基。

本发明的反应温度为室温,收率可稳定达到80-90%。

本发明的有益效果:本发明解决了目前现有的合成方法存在的反应困难、反应收率低和选择性差等缺点。以氨基吡啶和(BOC)2O在EDCI、HOBT和碱存在下反应制备BOC保护的氨基吡啶。该工艺易于操作、收率高、选择性好。

具体实施方式

实施例1

2-(叔丁氧羰基氨基)吡啶的合成

在室温下,将2-氨基吡啶(1g,10.6mmol)溶于二氯甲烷(10mL)中,搅拌状态下分别加入EDCI(3g,16mmol),HOBT(0.07g,0.5mmol),TEA(1.6g,16mmol)和(BOC)2O(3.5g,16mmol)。室温继续搅拌2h。TLC跟踪,原料消失,反应液水洗(20mL×2),有机层干燥,过滤浓缩,柱层析得纯产品1.85g,1HNMR DMSO δ:1.52(s,9H),7.18-7.19(m,1H),7.24(m,1H),7.52(m,1H),8.18-8.19(m,1H);收率:90%。单双BOC化合物比例为20:1。

实施例2

3-(叔丁氧羰基氨基)吡啶的合成

在室温下,将3-氨基吡啶(1g,10.6mmol)溶于二氯甲烷(10mL)中,搅拌状态下分别加入EDCI(6.1g,31.8mmol),HOBT(0.14g,1.0mmol),TEA(3.2g,31.8mmol)和(BOC)2O(4.6g,21.2mmol)。室温继续搅拌1h。TLC跟踪,原料消失,反应液水洗(20mL×2),有机层干燥,过滤浓缩,柱层析得纯产品1.75g,1HNMR DMSO δ:1.53(s,9H),7.26-7.27(m,1H),7.40(m,1H),8.23(m,1H),8.53(m,1H);收率:85%。单双BOC化合物比例为50:1。。

实例3

4-(叔丁氧羰基氨基)吡啶的合成

在室温下,将4-氨基吡啶(1g,10.6mmol)溶于二氯甲烷(10mL)中,搅拌状态下分别加入EDCI(4.6g,23.8mmol),HOBT(0.1g,0.8mmol),TEA(2.4g,23.8mmol)和(BOC)2O(4.0g,18.5mmol)。室温继续搅拌0.5h。TLC跟踪,原料消失,反应液水洗(20mL×2),有机层干燥,过滤浓缩,柱层析得纯产品1.85g,1HNMR DMSO δ:1.53(s,9H),7.34-7.35(m,2H),8.42-8.44(m,2H);收率:90%。单双BOC化合物比例为20:1。

实例4

4-(叔丁氧羰基氨基)-3-甲基吡啶的合成

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