[发明专利]一种应用于透明材质的分层氮化硅SiNxOy成膜方法

权利要求书

1.一种应用于透明材质的分层氮化硅SiNxOy成膜方法，其特征在于，以透明材料为基板材料，采用沉积薄膜的方法在基板材料表面沉积两层SiO₂ 膜层和一层SiNxOy膜层；通过SiNxOy层和SiO₂ 层光学膜系配比设计，经分层SiNxOy的成膜，使透明玻璃成品的透过率提高、反射率减小，所述方法包括如下次序步骤： 

步骤一、选取素透明材质基板或带透明导电膜层的透明材质为基板材料；

步骤二、在基板材料表面沉积第一SiO₂  膜层、第二SiO₂ 膜层和SiNxOy膜层，根据在基板材料沉积三个膜层的顺序不同，形成三种膜层结构的产品，其中：

第一种膜层结构的产品的沉积膜层的顺序为：

ａ)首先在基板材料表面沉积第一SiO₂  膜层，厚50～400nm，镀膜工艺条件电压300V～500V，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar， SiO₂ 膜层单层折射率为1.6～2.1之间；

ｂ)在经过镀膜工艺生成的第一SiO₂膜层表面沉积第二SiO₂膜层，膜厚50～400nm，镀膜工艺条件电压300V～500V，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar，SiO₂ 膜层单层折射率为1.6～2.1之间；

ｃ)在经过镀膜工艺生成的第二SiO₂膜层表面沉积SiNxOy膜层，厚度为30～500nm，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiNxOy膜层单层折射率为1.6～2.1之间，三层膜层综合折射率为1.5～2.0；x>0,0<y<2；其中x是：SiNxOy分子式中N原子的数目，y是：SiNxOy分子式中O原子的数目，使用玻璃时成品量测透过率大于91%，测试光学透过率时使用的光波长为550nm；

第二种膜层结构的产品的沉积膜层的顺序为：

ａ)首先在基板材料上表面沉积第一SiO₂膜层，厚50～400nm，镀膜工艺条件电压300V～500V，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiO₂ 膜层单层折射率为1.6～2.1之间；

ｂ)在经过镀膜工艺生成的第一SiO₂ 膜层表面沉积SiNxOy膜层，厚度为30～500nm，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiNxOy膜层单层折射率为1.6～2.1之间；生成的SiNxOy分子式中x>0,0<y<2，其中x是SiNxOy分子式中N原子的数目，y是：SiNxOy分子式中O原子的数目；

ｃ)在经过镀膜工艺生成的第二SiNxOy膜层表面沉积SiO₂ 膜层，厚度为30～500nm，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiO₂ 膜层单层折射率为1.6～2.1之间，三层膜层综合折射率为1.5～2.0；使用玻璃时成品量测透过率大于91%，测试光学透过率时使用的光波长是550nm；

第三种膜层结构的产品的沉积膜层的顺序为：

ａ)首先在基板材料表面沉积SiNxOy膜层，厚度为30～500nm，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiNxOy膜层单层折射率为1.6～2.1之间，生成的SiNxOy分子式中x>0,0<y<2；

ｂ)在经过镀膜工艺生成的第一SiNxOy膜层表面沉积SiO₂ 膜层，厚度为30～500nm，通入工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiO₂ 膜层单层折射率为1.6～2.1之间；

ｃ)在经过镀膜工艺生成的第二SiO₂ 膜层表面沉积SiO₂ 膜层，厚度为30～500nm，通入

工艺气体包含N₂，O₂，Ar；SiO₂ 膜层单层折射率为1.6～2.1之间，三层膜层综合折射率为1.5～2.0；使用玻璃时成品量测透过率大于91%，测试光学透过率时使用的光波长是550nm；

步骤三、在完成了SiO₂ 膜层、SiNxOy膜层沉积的基板材料的顶层上面可以沉积一层透

明导电层（TCO），透明导电层（TCO）可采用AZO（掺铝氧化锌导电膜）、ITO（Indium Tin Oxides 氧化铟锡导电薄膜）、FTO（掺杂氟的SnO₂导电膜）、或YZO（氧化锌掺钇透明导电薄膜）透明导电层。