[发明专利]一种图案匹配方法、装置及线宽测量机有效
申请号: | 201210477123.5 | 申请日: | 2012-11-22 |
公开(公告)号: | CN102944179A | 公开(公告)日: | 2013-02-27 |
发明(设计)人: | 林勇佑 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G06T7/00 |
代理公司: | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 潘中毅;熊贤卿 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图案 匹配 方法 装置 测量 | ||
1.一种图案匹配方法,用于线宽测量机的测量过程中,其特征在于,包括如下步骤:
读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案,所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板;
将所述测量样本上的所述每一标准图案分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比,所述多个设计原图差别在于图案灰度不同;
如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功,则判定所述图案匹配成功,进行后续的线宽测量过程;否则判定所述图案匹配失败。
2.如权利要求1所述的图案匹配方法,其特征在于,进一步包括:
预先在测量样本的至少一个预定位置上镀膜形成标准图案。
3.如权利要求1或2所述的图案匹配方法,其特征在于,进一步包括:
预先存储每一预定位置上的设计原图,每一位置上的标准图案所对应的设计原图为多个,所述每一设计原图所对应的图案灰度不同。
4.如权利要求1所述的图案匹配方法,其特征在于,如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功,则判定所述图案匹配完成的步骤具体为:
将所述测量样本上的标准图案与对应的每个设计原图进行比较,如果其中至少一个相似度达到预定比值,则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成功,所述相似度达到预定比值可以预先设定。
5.一种图案匹配装置,用于线宽测量机中,其特征在于,包括:
图像撷取单元,用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案,所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板;
匹配处理单元,将所述图像撷取单元读取的测量样本上的每一标准图案分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比,所述多个设计原图差别在于图案灰度不同;如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功,则判定所述图案匹配完成。
6.如权利要求5所述的图案匹配装置,其特征在于,进一步包括:存储单元,用于存储每一预定位置上的设计原图,每一位置上的标准图案所对应的设计原图为多个,所述每一设计原图所对应的图案灰度不同。
7.如权利要求6所述的图案匹配装置,其特征在于,匹配处理单元进一步包括:
获取子单元,从所述存储单元获取所述测量样本上的标准图案所对应的多个设计原图;
匹配子单元,将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设计原图进行对比;
匹配结果判定单元,用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似度达到预定比值时,则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成功,否则判定比对失败。
8.如权利要求7所述的图案匹配装置,其特征在于,进一步包括:
设定单元,用于设定标准图案与设计原图之间比对的相似度的比值,供所述匹配结果判定单元进行比对判定。
9.一种线宽量测机,其特征在于,包括:
图像撷取单元,用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案,所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板;
匹配处理单元,将所述图像撷取单元读取的测量样本上的每一标准图案分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比,所述多个设计原图差别在于图案灰度不同;如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功,则判定所述图案匹配成功;
线宽测量单元,用于在所述匹配处理单元判定图案匹配成功后,对所述测量样本上的线宽进行测量。
10.如权利要求9所述的线宽测量机,其特征在于,进一步包括:
存储单元,用于存储每一预定位置上的设计原图,每一位置上的标准图案所对应的设计原图为多个,所述每一设计原图所对应的图案灰度不同;
其中,匹配处理单元进一步包括:
获取子单元,从所述存储单元获取所述测量样本上的标准图案所对应的多个设计原图;
匹配子单元,将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设计原图进行对比;
匹配结果判定单元,用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似度达到预定比值时,则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成功,否则判定比对失败。
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