[发明专利]场发射光源结构无效

专利信息
申请号: 201210477778.2 申请日: 2012-11-22
公开(公告)号: CN103839755A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 周明杰;吴康锋;陈贵堂 申请(专利权)人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司
主分类号: H01J63/02 分类号: H01J63/02;H01J63/06
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 发射 光源 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及光电子技术领域,尤其涉及一种场发射光源结构。

背景技术

场发射光源是场发射研究的重要应用之一,其即可以应用于照明装置中,也可以用作显示器的背光源,如场发射显示器。因此,具有场发射光源的场发射器也已经成为照明装置及显示器等装置中不可缺少的器件。所述场发射器大多包括阴极基板、阳极基板及隔离体,该隔离体位于所述阴极基板和阳极基板之间,从而将该阴极基板和阳极基板隔开。

然而,在实际应用时,该隔离体的形状、尺寸及摆放位置往往会对基板表面的电场分布产生影响,并导致该基板与隔离体邻接处的电场分布发生畸形现象。该电场分布呈现畸形现象的影响主要有:(1)影响所述隔离体附近的阴极电场分布,使得阴极电子发射不均匀,进而缩短场发射器的使用寿命;(2)空间电场分布的不均匀使电子束轨迹发生改变,降低了该场发射器的工作性能;(3)由于阴极基板和阳极基板之间强电场的存在,增加了所述隔离体被击穿的可能性。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于提供一种可减少电场强度,且具有工作稳定性的场发射光源结构。

为了解决上述技术问题,本发明提供了一种场发射光源结构,其包括阴极基板、阳极基板及位于所述阴极基板和阳极基板之间的基板隔离体,所述基板隔离体的横截面为环状长方形,该横截面的内角圆弧过渡,所述阴极基板和阳极基板相互对准,所述基板隔离体放置于所述阴极基板和阳极基板之间,且所述基板隔离体与所述阴极基板的交接处到该阴极基板边缘的距离相等,所述基板隔离体与所述阳极基板的交接处到该阳极基板边缘的距离相等。

其中,所述基板隔离体为两端贯通的中空长方体状,其横截面为环状正方形,该基板隔离体的横截面其中,外正方形的边长为80毫米,该基板隔离体的内正方形的边长为70毫米,该基板隔离体30的厚度为5毫米,高度为1毫米。

其中,所述基板隔离体的相邻两个内表面之间为四分之一圆弧过渡,使得该基板隔离体的四个内角区域呈现为四分之一圆弧形转角。

其中,所述基板隔离体由具有特定刚度的绝缘材料制成。

其中,所述基板隔离体由陶瓷、玻璃或碳化硼制成。

其中,所述基板隔离体的材料为氧化铝含量为94%的陶瓷。

其中,所述基板隔离体通过封接材料密封固定于所述阴极基板和阳极基板之间,从而围成一长方体状的密封容置空间,该阴极基板与所述阳极基板的边缘及二者的中心分别相互对齐,且所述基板隔离体的侧边与所述阴极基板和阳极基板的侧边之间的垂直距离为10毫米。

其中,所述基板隔离体置于位于上述阴极基板和阳极基板之间,该阴极基板与所述阳极基板的边缘和中心分别相互对齐,所述基板隔离体的各边与所述阴极基板和阳极基板的边分别平行,所述基板隔离体与所述阴极基板的交接线到该阴极基板边缘的垂直距离为10毫米,该基板隔离体与所述阳极基板的交接线到该阳极基板边缘的垂直距离为10毫米。

其中,所述阴极基板与阳极基板为长方体板状,其横截面为边长为100毫米的正方形,该阴极基板和阳极基板由玻璃制成,所述基板隔离体的各边与所述阴极基板和阳极基板的边分别对应平行,且所述基板隔离体与所述阴极基板和所述阳极基板位于同一中心轴线上。

其中,所述场发射光源结构还包括发射体及发光层,该发射体设置于所述阴极基板的中部位置处,该发射体用于在电场的作用下激发产生电子,所述发光层设置于所述阳极基板的中部位置处,并对准上述发射体,所述发射体产生的电子在所述阴极基板和阳极基板之间电场驱动下撞击上述发光层

本发明所提供的场发射光源结构中,所述基板隔离体封接于所述阴极基板和阳极基板之间,形成一墙体状的隔离体结构,而且该基板隔离体内的四个内角区域采用圆弧形转角设计,如此不但使得转角区域强电场分布均匀,减少了该转角区域内的最大电场值及三相结合点电场强度,而且在一定程度上抑制了闪络电子的产生,降低了闪络电压,进而避免了该场发射光源结构的基板隔离体被击穿,提高了该场发射光源结构的使用寿命及工作稳定性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的场发射光源结构的水平方向的剖视图。

图2是本发明实施例提供的场发射光源结构的垂直方向的剖视图。

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