[发明专利]光照射装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种对沿着基板传送路径传送的处理对象基板照射光的光照射装置。

背景技术

例如在液晶显示装置等的制造工序中，为了形成对玻璃基板等基板高密接性的薄膜，通过对基板的表面照射紫外线，对该玻璃基板进行清洁处理。

在这种基板的清洁处理中所使用的光照射装置中，要求可对多数基板连续执行光照射处理，而作为这种光照射装置，公知有对沿着基板传送路径传送的基板照射光的装置。

图3是表示对沿着基板传送路径传送的基板照射光的现有的光照射装置的一例的构造的说明用剖视图。在该光照射装置中，具有在下表面形成光射出用的开口，且外形为大致长方体状的灯罩80，在该灯罩80内，设置有将该灯罩80内上下区分来形成灯收容室R1及电气部收容室R2的隔壁81。在灯罩80的灯收容室R1内，以水平排列的方式收容配置有分别放射例如波长200nm以下的紫外线的多个准分子灯85，上述等准分子灯85分别电连接在被收容在电气部收容室R2的电气部（省略图示）。此外，在灯罩80的灯收容室R1的隔壁81的下表面，配置有对处理对象即基板W与准分子灯85之间供给惰性气体的气体供给单元86。

在灯罩80的下方，设置有沿着基板传送路径L传送基板W的具有多个传送辊91的基板传送机构90，在该基板传送机构90的下方，设置有排出从气体供给单元86供给的惰性气体的具有多个排气口93的排气机构92。

在基板传送路径L的灯罩80的上游侧及下游侧，分别由一方的压力缓冲空间形成材料82及另一方的压力缓冲空间形成材料83与该灯罩80相邻地形成一方的压力缓冲空间S1及另一方的压力缓冲空间S2。在基板传送路径L的一方的压力缓冲空间S1的上游侧及另一方的压力缓冲空间S2的下游侧，分别设置有通过对沿着基板传送路径L传送的基板W的一面喷射空气来从该基板W的一面去除灰尘的灰尘去除单元95、96，在设置在下游侧的灰尘去除单元96，形成有排出被喷射的空气的排气口97。

在这种光照射装置中，对由基板传送机构90沿着基板传送路径L传送的基板W，首先在该基板W通过灰尘去除单元95的去除处理区域T1时，从该灰尘去除单元95喷射空气来进行灰尘的去除处理，接下来在该基板W通过位于准分子灯85正下方的光照射处理区域T2时，从气体供给单元86对基板W与准分子灯85之间供给惰性气体，并且从准分子灯85对基板W的一面照射例如波长200nm以下的紫外线，由此进行光清洁处理，进而在该基板W通过灰尘去除单元96的去除处理区域T3时，从该灰尘去除单元96喷射空气来进行灰尘的去除处理。

然而，在上述构造的光照射装置中，因为从灰尘去除单元95喷射的空气在流过位于准分子灯85正下方的光照射处理区域T2之后，从灰尘去除单元96的排气口97被排气，因此流入至光照射处理区域T2的空气吸收来自准分子灯85的紫外线，其结果存在无法对基板W以高效率照射紫外线的问题。

并且，为了抑制空气流入位于准分子灯正下方的光照射处理区域，提出了在光照射处理区域的下方设置分隔板的光照射装置（参照专利文献1）。

然而，在这种光照射装置中，虽然可抑制在基板传送路径下方流动的空气流入至光照射处理区域，但是并未考量在基板传送路径上方流动的空气即沿着基板的被光照射的一面流动的空气流入至光照射处理区域，结果空气流入准分子灯与基板之间，从而难以对基板以高效率照射紫外线。

专利文献1：日本特开2010-75888号公报

发明内容

本发明是鉴于以上情况而做出的，其目的在于提供一种光照射装置，抑制空气流入至处理对象基板与灯之间，从而能够以高效率对处理对象基板照射光。

本发明的一种光照射装置，具备：灯罩，内置有朝向沿着基板传送路径传送的处理对象基板的一面照射光的准分子灯；和气体供给单元，对上述处理对象基板与上述准分子灯之间供给惰性气体，在上述基板传送路径上的上述灯罩的上游侧，与该灯罩相邻地形成有压力缓冲空间，上述光照射装置的特征在于，在基板传送路径上的压力缓冲空间的上游侧设置有空气排出单元，该空气排出单元排出沿着处理对象基板的被光照射的一面流动的空气。

在本发明的光照射装置中，优选的是，在上述基板传送路径上的上述空气排出单元的上游侧设置有灰尘去除单元，该灰尘去除单元通过向上述处理对象基板的一面喷射空气来从该处理对象基板的一面去除灰尘。

此外，优选的是，设置有空气流入限制板，限制空气从上述基板传送路径上的上述压力缓冲空间的上游向该压力缓冲空间流入。