[发明专利]关键尺寸的测量方法有效
| 申请号： | 201210484767.7 | 申请日： | 2012-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN103837105A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 蔡博修 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01B15/00 | 分类号： | G01B15/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 关键 尺寸 测量方法 | ||
1.一种关键尺寸的测量方法，对测量点进行测量，其特征在于，包括：
在第一放大倍率时获得定位区域；
在第二放大倍率下获得辅助定位点，反复扫描所述辅助定位点，形成阴影区；
在第三放大倍率下进行拍照；
提取所述定位区域和阴影区的位置差；
由所述位置差调整电子束位移，在第四放大倍率下再次测量测量点；
进行设定次数的测量。
2.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，在第二放大倍率下获得辅助定位点的方法为：
记录由所述定位区域中心到所述测量点的电子束第一位移参数集；
将所述电子束第一位移参数集的元素取相反数得到电子束第二位移参数集；
将所述电子束第二位移参数集赋予测量系统，使得电子束位移，获得辅助定位点。
3.如权利要求2所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述辅助定位点与测量点以定位区域中心呈中心对称。
4.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，反复扫描所述辅助定位点的次数为15~30次。
5.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，在第三放大倍率下进行拍照时，拍照区域囊括所述阴影区和所述定位区域。
6.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述由所述位置差调整电子束位移，在第四放大倍率下再次测量测量点包括：
采用传统定位方法结合所述位置差获得电子束第三位移参数集；
将电子束第三位移参数集的元素取相反数得到电子束第四位移参数集；
将所述电子束第四位移参数集赋予测量系统，使得电子束位移，再次测量测量点。
7.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述第一放大倍率为10000~50000。
8.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述第二放大倍率为180000~250000。
9.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述第三放大倍率为2000~5000。
10.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述第四放大倍率为100000~300000。
11.如权利要求1所述的关键尺寸的测量方法，其特征在于，所述位置差的值小于等于8μm。
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