[发明专利]CdSe/CIS叠层薄膜太阳电池有效
申请号: | 201210485395.X | 申请日: | 2012-11-26 |
公开(公告)号: | CN102931248A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 黄代绘;李卫 | 申请(专利权)人: | 西南交通大学 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/0224;H01L31/0687 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610031 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | cdse cis 薄膜 太阳电池 | ||
技术领域
本发明属于新能源材料与器件领域,特别涉及一种叠层薄膜太阳电池。
背景技术
采用半导体技术将太阳能转化为电能是太阳能利用最直接的方式与途径。实现太阳能光伏发电,将在缓解化石能源枯竭、减少温室气体排放上起着至关重要的作用。虽然晶体硅太阳电池已被大量使用,但目前仍然是不重要的补充能源,追根究底,主要在于生产成本太高。要使光伏发电成为人类未来获取电力的主要方式,其发电成本要与常规能源相当。而提高太阳电池的转换效率,是降低光伏发电成本的重要途径之一。为此,欧盟公布了《2030年及远期光伏技术展望》(Photovoltaic Technology Vision for 2030 and Beyond),美国提出了高性能光伏计划(HiperfPV),这些计划都提出了研发一种叠层薄膜太阳电池,从而大大提升器件光电转换效率(~25%)。
对于叠层薄膜太阳电池而言,需要顶电池具有较宽的能隙并且在近红外波段也要有较高的透过率。因此,几种比较重要的I-III-VI、II-VI族化合物等宽能隙合金获得比较多的关注,如,CuGaSe2、Cu(InGa)(SeS)2、Cu(InGa)S2、CuInS2、Cd1-xZnxTe。然而上述材料一旦作为顶电池沉积了透明背接触后,效率衰降程度很大。主要原因在于:(1)这类多元化合物制备困难,很难控制化学配比;(2)这类多元化合物与透明背接触工艺不兼容,当不透明的背接触换成透明的背接触材料,如透明导电氧化物薄膜(TCO),高温过程常常导致Ga2O3的形成及TCO中组分的缺失,严重影响器件的性能,从而使效率大大降低。
虽然美国可再生能源实验室(NREL)采用II-VI族化合物CdTe制备了机械叠层CdTe/CuInSe2(CIS)太阳电池(Prog Photovolt:Res Appl,2006,14:471),但该结构也存在明显的不足,CdTe作为顶电池的吸收层,其能隙偏小于理想双结太阳电池的能隙(Prog Photovolt:Res Appl,2003,11:359),而采用机械叠层结构,光学匹配对电池的结构和设计又提出了更高的要求。
发明内容
本发明的目的是为了消除上述叠层电池中工艺不兼容、结构上的不足或缺陷,进一步改进双结叠层薄膜太阳电池的结构设计,提出一种以CdSe作顶电池,而以CuInSe2(CIS)作底电池的CdSe/CIS的双结叠层太阳电池结构,选择性地吸收和转化太阳光谱的不同波段的能量,从而获得更高的光电转换效率。
为实现本发明目的,本发明的技术方案是:把CdSe作为吸收层的顶电池直接沉积在CIS作为吸收层的底电池之上,形成双结两端一体化叠层薄膜太阳电池。CIS作为吸收层的底电池(简称CIS底电池),指的是在玻璃衬底上依次为Mo背电极,吸收层CIS,缓冲层CdS、高阻层ZnO、调制掺杂ZnO基透明导电氧化物薄膜。所谓调制掺杂ZnO基透明导电氧化物薄膜指的是以MgxZn1-xO:A1/MgxZn1-xO/ZnO结构形式周期性地复合在一起,其中,MgxZn1-xO:A1(能隙可高达~3.9eV)作为掺杂层,未掺杂较小能隙的ZnO(能隙~3.3eV)作为调制层,未掺Al的MgxZn1-xO作为阻挡层。CdSe作为吸收层的顶电池指的是结构组成上依次具有单壁碳纳米管(SWCNT)作为p型透明前电极,ZnSe:N作为p型窗口层,CdSe作为n型吸收层,调制掺杂ZnO基透明导电氧化物薄膜作为共用透明接触层的器件。因此,本发明中CdSe/CIS叠层太阳电池的具体结构形式为:玻璃/Mo/CIS/CdS/ZnO/调制掺杂ZnO基透明导电氧化物薄膜/CdSe/ZnSe:N/单壁碳纳米管,其特征是采用单壁碳纳米管(SWCNT)作为透明前电极,调制掺杂ZnO基透明导电氧化物薄膜作为透明接触层。
在上述方案中,单壁碳纳米管(SWCNT)作为p型透明前电极,方块电阻约10~200欧姆,厚度30~1000nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南交通大学,未经西南交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210485395.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:加氢生产润滑油基础油的方法
- 下一篇:一种低温钴基费托合成催化剂及制备方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的