[发明专利]膜形成装置、膜形成方法和要用于它们的掩模单元

说明书

技术领域

本发明涉及膜形成装置、使用膜形成装置的膜形成方法、和要用在膜形成装置和膜形成方法中的掩模单元。

背景技术

通过排列多个有机电致发光（EL）发光元件形成的平面型显示装置（有机EL显示器）现在正在引起人们的注意，其中每个有机EL发光元件被选择性地控制以发出预定波长的光。

有机EL显示器一般通过使用真空薄膜形成技术来形成。注意，当制造有机EL显示器时，必须在诸如透明玻璃之类的基板上以矩阵在纵向和横向排列多个有机EL发光元件。因此，当制造有机EL显示器时，在预定区域中形成具有特定发射颜色的有机EL元件时执行精细图案化是必要的。具体地，例如当制造用于彩色图像显示器的有机EL显示器时，必须形成与红（R）、绿（G）和蓝（B）的相应的颜色分量对应的图案化的膜，从而在确定的区域中选择性地形成相应的颜色的有机EL发光元件。

但是，随着基板和掩模的尺寸的增大，掩模精度以及掩模和基板之间的定位的对准精度趋向于降低。

此外，在真空薄膜形成技术的气相沉积膜形成中，随着基板和掩模的尺寸的增大，由于气相沉积源的温度，基板和掩模的变形趋向于增加。

近年来，已经做出各种提议来解决上述问题。日本专利申请公开No.2003-217850提出了一种利用掩模在基板的整个表面上形成薄膜的方法，其中至少两个单位掩模被固定到具有开口部分的框架。注意，在日本专利申请公开No.2003-217850中公开的单位掩模在其纵向上包括至少一个单位掩模图案部分（一个掩模开口部分）。

但是，在日本专利申请公开No.2003-217850中提出的方法中，在将各个单位掩模固定到框架时的定位精度取决于基板的整个表面上的图案排列精度。因此，随着单位掩模的数目变大，从整体基板看，更经常地不能获得必须的掩模精度，这已经成为一个问题。

发明内容

做出本发明以解决上述问题，并且本发明具有提供用于制造具有高分辨率和高产量的诸如有机EL发光装置之类的装置的膜形成装置的目的。

根据本发明的一个示范性实施例，提供一种膜形成装置，包括：多个掩模单元保持部分，用于分别支持多个掩模单元；多个对准机构，根据所述多个掩模单元保持部分设置；和气相沉积源，其中通过所述多个对准机构将所述多个掩模单元相对于一个基板一个一个地对准和布置。

可替换地，根据本发明的另一个示范性实施例，提供一种在基板上形成图案化的膜的膜形成方法，所述膜形成方法包括：准备多个掩模单元，每个掩模单元包括开口图案单元；相对于所述基板一个一个地对准所述多个掩模单元；以及经由所述多个掩模单元的开口图案单元在基板上共同地形成膜。

此外，根据本发明的另一个示范性实施例，提供一种用在上述膜形成装置和膜形成方法中的掩模单元，所述掩模单元包括：掩模构件，包括开口部分，在所述开口部分中相互并行地布置多个开口图案单元；和框架，用于固定所述掩模构件，其中所述框架包括：两个掩模构件固定部分，每个掩模构件固定部分包括用于固定所述掩模构件的表面；和支持部分，在与固定所述掩模构件的一侧相对的一侧被固定到所述两个掩模构件固定部分的每一个的表面，所述支持部分支持所述两个掩模构件固定部分。

根据本发明，可以提供用于制造具有高分辨率和高产量的诸如有机EL发光装置之类的装置的膜形成装置。

本发明的进一步的特征通过参考附图对示范性实施例的以下描述将变得清楚。

附图说明

图1A和图1B分别是根据本发明的第一实施例的膜形成装置的侧视图透视图。

图2A、2B和2C是示出了用在图1A和1B的膜形成装置中的掩模单元的特定示例的示意性截面图。

图3A和3B是示出了掩模单元相对于基板的布置模式的特定示例的平面图，其中图3A是布置模式的整体图以及图3B是图3A的X区域的放大图。

图4是示出了根据本发明的第二实施例的膜形成装置的示例的透视图。

图5是示出了掩模单元相对于基板的布置模式的另一个特定示例的平面图。

具体实施方式

现在根据附图详细描述本发明的优选实施例。