[发明专利]MOSFET的等效网络及仿真方法有效
申请号: | 201210488418.2 | 申请日: | 2012-11-26 |
公开(公告)号: | CN103838896B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 武洁 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | mosfet 等效 网络 仿真 方法 | ||
技术领域
本发明涉及半导体器件的制造领域,特别是指一种MOSFET的等效网络,本发明还涉及所述MOSFET的仿真方法。
背景技术
随着集成电路中功率器件如功率整流器、功率放大器等的发展,高压MOS、高压LDMOS(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor横向双扩散金属氧化物半导体)等也被广泛应用于这些高压集成电路中。模型需要准确模拟器件漏极电流随栅源电压从小到大的变化。如图1所示,当器件工作于栅源电压、栅漏电压都比较大的工作条件时,器件处于高压大电流情况,此时器件功耗P=IDS*VDS较大,图中五条曲线,对应的VGS逐渐由1V升至5V的情况,器件温度升高,漏极电流IDS减小,此现象即为器件自发热效应。目前标准SPICE(Simulation Program With Integrated Circuit Emphasis集成电路增强模拟程序)的BSIM(Berkeley Short channel Insulated gate field effecttransistor Model伯克利短沟道绝缘栅场效应晶体管模型)模型并不包含此器件效应,不能准确模拟器件自发热效应,从而降低电流仿真精度。因此包含器件自发热效应的精确模型是电路仿真的关键。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种MOSFET的等效网络,并通过此等效网络来精确仿真MOSFET的自发热效应。
为解决上述问题,本发明所述的MOSFET的等效网络,包含一MOSFET,电流控制电流源FJFET,第一及第二电压源,第一及第二电压控制电压源,第一、第二、第三及第四电阻,其中:
MOSFET的漏极连接第三电阻的第一端,第三电阻的另一端引出所述等效网络的漏极;MOSFET的源极连接第四电阻的第一端,第四电阻的另一端引出所述等效网络的源极;MOSFET的栅极及衬底电极直接引出;
电流控制电流源的两端分别接在MOSFET的源极和漏极;
第一电压控制电压源由MOSFET的源漏电压控制,且第一电压控制电压源作用于第一电阻并产生电流流经第一电压源;
第二电压控制电压源由第三电阻两端的电压控制,且第二电压控制电压源作用于第二电阻并产生电流流经第二电压源。
进一步地,所述的MOSFET由SPICE程序提供,是一源漏对称,或者不对称的MOSFET。
进一步地,所述第三电阻模拟MOSFET的漏极电阻,第四电阻模拟MOSFET的源极电阻;第一电压控制电压源由MOSFET的源漏电压控制,且第一电压控制电压源控制第一电阻使第一电压源产生相应电流;第二电压控制电压源由第三电阻两端的电压控制,且第二电压控制电压源控制第二电阻使第二电压源产生相应的电流;第一电压源及第二电压源产生的电流反馈到电流控制电流源,以模拟MOSFET的自发热效应。
一种MOSFET的仿真方法,包含如下两个步骤:
步骤一,构建MOSFET的等效网络;
步骤二,利用构建的等效网络进行MOSFET的仿真。
进一步地,所述步骤一中,MOSFET的等效网络包含有一基础MOSFET,一电流控制电流源,第一、第二、第三、第四电阻,第一及第二电压控制电压源,第一及第二电压源,其中:
MOSFET的漏极连接第三电阻的第一端,第三电阻的另一端引出所述等效网络的漏极;MOSFET的源极连接第四电阻的第一端,第四电阻的另一端引出所述等效网络的源极;MOSFET的栅极及衬底电极直接引出;
电流控制电流源的两端分别接在MOSFET的源极和漏极;
第一电压控制电压源由MOSFET的源漏电压控制,且第一电压控制电压源作用于第一电阻并产生电流流经第一电压源;
第二电压控制电压源由第三电阻两端的电压控制,且第二电压控制电压源作用于第二电阻并产生电流流经第二电压源。
进一步地,所述的基础MOSFET由SPICE程序提供,是一源漏对称,或者源漏不对称的MOSFET。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司,未经上海华虹宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210488418.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。