[发明专利]一种新型显影处理单元结构无效
| 申请号： | 201210494121.7 | 申请日： | 2012-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN103034076A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 何伟明;邢精成;朱骏;张旭昇 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 显影 处理 单元 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型显影处理单元结构，其特征在于，包括显影臂、平台、两个或两个以上喷嘴，所述显影臂与所述平台连接，所述平台上设有连接面，所述喷嘴设于所述连接面上，所述连接面的面积大于或等于晶圆的面积。
2.如权利要求1所述的显影处理单元结构，其特征在于，所述喷嘴均匀分布于所述连接面上。
3.如权利要求2所述的显影处理单元结构，其特征在于，所述连接面为圆形。
4.如权利要求3所述的显影处理单元结构，其特征在于，所述连接面的面积为8-12寸。
5.如权利要求4所述的显影处理单元结构，其特征在于，还包括喷淋通道，所述喷淋通道的数量与所述喷嘴的数量相等，每一所述喷嘴分别与每一所述喷淋通道连接。
6.如权利要求5所述的显影处理单元结构，其特征在于，还包括多个喷淋马达，每一所述喷淋通道设有一个喷淋马达。
7.如权利要求6所述的显影处理单元结构，其特征在于，还包括保护槽和隔板，所述保护槽和隔板配合形成保护罩，所述保护罩设于所述平台的上方，当不使用所述平台时，将所述平台置于所述保护罩中。
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