[发明专利]具波浪形表面的玻璃基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201210497748.8 申请日: 2012-11-29
公开(公告)号: CN103723927A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 苏金种;古智扬;朴炳俊 申请(专利权)人: 技迪科技股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 中国台湾台中市梧*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 波浪形 表面 玻璃 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,包含步骤:

(a) 提供一玻璃基板;

(b) 在所述玻璃基板的表面上制作一保护层,所述保护层包含一待蚀刻区域,其曝露出所述玻璃基板的部分表面;

(c) 进行一第一蚀刻制程,以将所述玻璃基板蚀刻形成对应所述待蚀刻区域的一凹槽;

(d) 将所述保护层移除;以及

(e) 将步骤(c)中形成有所述凹槽的玻璃基板浸入蚀刻液中,进行一第二蚀刻制程,以将所述凹槽的壁面曲度化,形成具波浪形表面的玻璃基板。

2.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,步骤(c)的第一蚀刻制程中是以一第一蚀刻速率对所述玻璃基板进行蚀刻,而步骤(e)的第二蚀刻制程中是以一第二蚀刻速率对所述玻璃基板进行蚀刻,所述第一蚀刻速率大于所述第二蚀刻速率。

3.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,在步骤(b)中所述待蚀刻区域的大小是预先决定的,而在步骤(c)中所述玻璃基板上形成的所述凹槽具有一预定深度和一预定宽度。

4.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,在步骤(e)之前,更包含将所述玻璃基板洗净的步骤。

5.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,步骤(b)包含:

提供一胶膜;以及

将所述胶膜贴附在所述玻璃基板的表面上,以形成所述保护层。

6.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,步骤(b)包含:

提供一可溶性材料;

将所述可溶性材料涂布在所述玻璃基板的表面上;以及

对所述涂布的可溶性材料进行烘干作业,以形成所述保护层。

7.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,步骤(b)包含:

将所述玻璃基板置于一化学沉积机台中;以及

以化学沉积方式在所述玻璃基板的表面镀上一耐蚀层,以作为所述保护层。

8.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述保护层的材质包含有机材料和金属材料至少一种。

9.如权利要求1所述的具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,在步骤(c)和步骤(e)中进行蚀刻程序所使用的蚀刻液至少包含氢氟酸。

10.一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其特征在于,包含步骤:

(a) 提供一玻璃基板;

(b) 在所述玻璃基板的表面上制作一保护层,所述保护层包含一待蚀刻区域,其曝露出所述玻璃基板的部分表面;

(c) 以一第一蚀刻速率对来自步骤(b)的玻璃基板进行蚀刻,以在所述玻璃基板上形成对应所述待蚀刻区域的一凹槽,所述玻璃基板上形成的所述凹槽具有一预定深度和一预定宽度;

(d) 将所述保护层自所述玻璃基板移除;以及

(e) 以一第二蚀刻速率对来自步骤(d)的玻璃基板进行蚀刻,以将所述凹槽的壁面曲度化,形成具波浪形表面的玻璃基板,其中步骤(c)中的所述第一蚀刻速率大于步骤(e)中的所述第二蚀刻速率。

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