[发明专利]具波浪形表面的玻璃基板的制造方法无效
申请号: | 201210497748.8 | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN103723927A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 苏金种;古智扬;朴炳俊 | 申请(专利权)人: | 技迪科技股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾台中市梧*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波浪形 表面 玻璃 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种玻璃基板的表面的加工方法,尤其涉及一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法。
背景技术
传统要在玻璃基板制作出波浪形表面或曲型表面是以压铸方式来进行加工,然而此种方式会增加玻璃基板内部应力的形成,对于后续需进行的加工工序,如切割、削薄、打磨和制作倒角(R角)等工序,容易导致玻璃基板破裂或断裂的情形,使得产品良率下降,整个制造成本提高。因此,如何提供一种具有波浪形表面的玻璃基板的制造方式,以解决传统压铸法所导致的低良率的问题,实为目前产业界的重要课题。
发明内容
本发明的一目的在于提供一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,以解决传统压铸方式所形成曲型玻璃不利于后续加工的问题。
为达成上述目的,本发明提供一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,包含步骤:(a) 提供一玻璃基板;(b) 在所述玻璃基板的表面上制作一保护层,所述保护层包含一待蚀刻区域,其曝露出所述玻璃基板的部分表面;(c) 进行一第一蚀刻制程,以将所述玻璃基板蚀刻形成对应所述待蚀刻区域的一凹槽;(d) 将所述保护层移除;以及(e) 将步骤(c)中形成有所述凹槽的玻璃基板浸入蚀刻液中,进行一第二蚀刻制程,以将所述凹槽的壁面曲度化,形成具波浪形表面的玻璃基板。
本发明还提供一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,包含步骤:(a) 提供一玻璃基板;(b) 在所述玻璃基板的表面上制作一保护层,所述保护层包含一待蚀刻区域,其曝露出所述玻璃基板的部分表面;(c) 以一第一蚀刻速率对来自步骤(b)的玻璃基板进行蚀刻,以在所述玻璃基板上形成对应所述待蚀刻区域的一凹槽,所述玻璃基板上形成的所述凹槽具有一预定深度和一预定宽度;(d) 将所述保护层自所述玻璃基板移除;以及(e) 以一第二蚀刻速率对来自步骤(d)的玻璃基板进行蚀刻,以将所述凹槽的壁面曲度化,形成具波浪形表面的玻璃基板,其中步骤(c)中的所述第一蚀刻速率大于步骤(e)中的所述第二蚀刻速率。
相较于传统使用压铸方式来制作曲型玻璃,本发明使用两道蚀刻制程形成玻璃基板的波浪形表面的方式,能够确保玻璃基板内部应力不受破坏,因此对于后续的切削、减薄、形成倒角(R角)等加工工序,仍然能够维持相当高的产品良率。
附图说明
图1A至图1F显示本发明中具波浪形表面的玻璃基板的制造方法的流程示意图。
图1A显示提供玻璃基板的示意图。
图1B显示在玻璃基板表面上形成包含有待蚀刻区域的保护层的示意图。
图1C显示进行第一蚀刻制程以将玻璃基板蚀刻形成凹槽的示意图。
图1D显示将保护层移除的示意图。
图1E显示将玻璃基板洗净的示意图。
图1F显示进行第二蚀刻制程以将凹槽曲面化的示意图。
【主要组件符号说明】
10 玻璃基板 12 凹槽
20 保护层 21 待蚀刻区域
具体实施方式
以下将详细介绍本发明各种实施方式,为了清楚明了起见,本发明具体实施例的描述中会使用特定用语。然而,本发明并无意图以选用的特定用语为限,仅为清楚描述而已。本领域的技术人员应明白在不背离本发明的精神及范围的情况下,本发明可以涵盖使用在技术上等价的均等物,或以类似方式达到相似目的的其它组件及配置。
本发明的特征及优点可借由后附图示及本发明实施例更具体的描述而清楚呈现,其中相同的或功能类似的且或结构类似的组件以相同的标号表示。除非有特别说明,否则所附图示是未依等比例绘制。
本发明是有关一种具波浪形表面的玻璃基板的制造方法,其使用了两道蚀刻制程来形成玻璃基板的波浪形表面。第一道蚀刻制程是在玻璃基板表面蚀刻出凹槽,以粗略地建立波浪形表面的大致轮廓。第二道蚀刻制程则利用侧蚀和浸蚀效应,进一步将玻璃基板的平坦和锐利的部分曲度化,也就是说,将玻璃基板上形成的凹槽进一步蚀刻,使其壁面呈现弧面的形态,如此即形成具波浪形表面的玻璃基板。利用此方式所制成的曲型玻璃,因其内部应力不受破坏,故在后续的玻璃加工的工序上(如切割、削薄和打磨)能够维持相当高的产品良率。
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