[发明专利]旋转式连续镀膜装置及其方法

权利要求书

1.旋转式连续镀膜装置，其特征在于，包括工件输送带、装卸片机构和真空镀膜装置，工件输送带设于真空镀膜装置的一侧，工件输送带上设有装卸工位，真空镀膜装置上设有预抽真空室，装卸工位与预抽真空室之间设置装卸片机构；真空镀膜装置为旋转式结构，设有多个呈圆周分布的真空室；装卸片机构设有可进行180°旋转的旋转臂。

2.根据权利要求1所述的旋转式连续镀膜装置，其特征在于，所述装卸片机构包括旋转轴、旋转轴旋转气缸、旋转臂、吸盘升降气缸和吸盘组件，旋转轴竖直设置，旋转轴旋转气缸设于旋转轴底部，旋转臂水平设于旋转轴顶部，旋转臂两端分别设置吸盘升降气缸，各吸盘升降气缸的输出端分别与吸盘组件连接。

3.根据权利要求2所述旋转式连续镀膜装置，其特征在于，所述吸盘组件包括工件转换盖板和真空吸盘，工件转换盖板固定于吸盘升降气缸的输出端，工件转换盖板上开有通孔，通孔处安装真空吸盘；

位于旋转臂一端的吸盘组件设于工件输送带的装卸工位上方，位于旋转臂另一端的吸盘组件设于真空镀膜装置的预抽真空室上方。

4.根据权利要求3所述旋转式连续镀膜装置，其特征在于，所述工件转换盖板为圆形的板状结构，工件转换盖板的直径大于预抽真空室的直径；

所述旋转臂为长方形的板状结构，旋转臂中心与旋转轴连接，旋转臂两端分别与吸盘升降气缸固定连接。

5.根据权利要求1所述旋转式连续镀膜装置，其特征在于，所述真空镀膜装置设有多个真空室，包括依次连接的预抽真空室、第一隔离室、镀膜前高真空抽气室、第二隔离室、溅射镀膜室、第三隔离室、镀膜后高真空抽气室和第四隔离室；真空镀膜装置中部设有高真空抽气隔离室，预抽真空室、第一隔离室、镀膜前高真空抽气室、第二隔离室、溅射镀膜室、第三隔离室、镀膜后高真空抽气室和第四隔离室呈圆形分布排列于高真空抽气隔离室的外周；各真空室和高真空抽气隔离室的底部相通并设有转盘，转盘上与各个真空室的相应处设有工件托盘，转盘底部设有转盘旋转机构，各个工件托盘底部分别设有托盘升降机构。

6.根据权利要求5所述旋转式连续镀膜装置，其特征在于，所述转盘旋转机构包括相连接的转盘旋转电机和转盘旋转减速器，转盘旋转电机的输出端与转盘旋转减速器连接，转盘旋转减速器的输出端与转盘中心连接；

托盘升降机构包括托盘升降气缸，托盘升降气缸固定于真空镀膜装置底部，托盘升降气缸的输出端穿过转盘并与托盘底部固定连接。

7.根据权利要求1所述旋转式连续镀膜装置，其特征在于，所述工件输送带上设有多个工位，工件输送带的中部为装卸工位，按照工件的输送方向，装卸工位的后方为多个工件输入工位，装卸工位的前方为多个工件输出工位。

8.通过权利要求1~7任一项所述装置实现一种旋转式连续镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）工件输送带运行，将待镀膜工件送入装卸工位；同时，真空镀膜装置内的已镀膜工件进入预抽真空室；

（2）装卸片机构运行，同时吸起装卸工位上的待镀膜工件和预抽真空室内的已镀膜工件，旋转臂旋转180°，带动待镀膜工件和已镀膜工件交换位置，此时，待镀膜工件进入预抽真空室，已镀膜工件进入装卸工位；

（3）工件输送带运行，将已镀膜工件送出装卸工位，并将新的待镀膜工件送入装卸工位；同时，真空镀膜装置对待镀膜工件进行镀膜，新的已镀膜工件进入预抽真空室；

（4）重复步骤（2）至（3），直至所有待镀膜工件镀膜完成。

9.根据权利要求8所述旋转式连续镀膜方法，其特征在于，所述步骤（2）中，装卸片机构运行时，吸盘升降气缸控制对应的吸盘组件下移，位于旋转臂两端的吸盘组件同时吸起装卸工位上的待镀膜工件和预抽真空室内的已镀膜工件，吸盘升降气缸控制吸盘组件回升；然后旋转轴旋转气缸动作，通过旋转轴带动旋转臂旋转180°，使待镀膜工件和已镀膜工件交换位置。

10.根据权利要求8所述旋转式连续镀膜方法，其特征在于，所述步骤（3）中，真空镀膜装置对待镀膜工件进行镀膜时，其具体过程为：托盘升降气缸带动托盘上升，同时对预抽真空室内抽真空后，待镀膜工件落入托盘上，托盘接住待镀膜工件后，托盘升降气缸带动托盘及待镀膜工件下降至转盘表面；转盘旋转电机通过转盘旋转减速器控制转盘转动，转盘转动90°，将待镀膜工件从预抽真空室送入镀膜前高真空抽气室，进行高真空隔离抽气；完成后，转盘旋转电机带动转盘再旋转90°，将待镀膜工件从镀膜前高真空抽气室送入溅射镀膜室，托盘升降气缸带动托盘上升至溅射镀膜室内的镀膜区域，然后对待镀膜工件进行镀膜；镀膜完成后，托盘升降气缸带动托盘下降至原位，此时待镀膜工件转为已镀膜工件，转盘旋转电机带动转盘继续旋转90°，将已镀膜工件送至镀膜后高真空抽气室进行缓冲处理；最后，转盘旋转电机带动转盘再旋转90°，将已镀膜工件送至预抽真空室，托盘升降气缸带动托盘上升，向预抽真空室内放入空气使预抽真空室达到大气状态，此时，装卸片机构运行，重复步骤（2）；

转盘每旋转90°，即有一个新的待镀膜工件送入预抽真空室，同时有一个新的已镀膜工件被送出。