[发明专利]一种湿刻蚀工艺

权利要求书

1.一种湿刻蚀工艺，其特征在于：包括以下步骤：

1）上料：将玻璃基板放入湿刻机的入口传送带上；

2）EUV：对玻璃基板用紫外灯管进行照射去除杂质，后用纯水进行清洗，最后进行烘干处理；

3）刻蚀：将浓度为59%的磷酸、浓度为5%的硝酸以及浓度为4%的醋酸按照重量比为50:7:15的比例混合形成刻蚀液，并用该刻蚀液对经过EUV处理的玻璃基板进行刻蚀，同时在出口处进行烘干处理；

4）刻蚀浴：按照步骤3）中的配比配置刻蚀液，并将其稀释为浓度为20～30%，形成刻蚀液浴，将经过刻蚀后的玻璃基板放入在刻蚀液浴中，玻璃基板以的方式通过刻蚀液浴；

5）清洗：玻璃基板经过刻蚀液浴后，进入清洗单元，利用纯水对玻璃基板上残存的刻蚀液进行清洗；

6）风刀：清洗过后，将玻璃基板送入风刀单元，利用风刀将玻璃基板表面的水分烘干；

7）出料：将玻璃基板从湿刻机的传送带上取出，放入湿刻机旁指定的卡匣中。

2.根据权利要求1所述的一种湿刻蚀工艺，其特征在于：步骤1）中利用机械手将玻璃基板放入湿刻机入口的传送带上。

3.根据权利要求1所述的一种湿刻蚀工艺，其特征在于：步骤2）中紫外灯管为波长172nm的紫外灯管。

4.根据权利要求1所述的一种湿刻蚀工艺，其特征在于：步骤2）中，杂质为有机物杂质。

5.根据权利要求1所述的一种湿刻蚀工艺，其特征在于：步骤2）以及步骤3）中，均采用风刀对玻璃基板进行风干处理。

6.根据权利要求1所述的一种湿刻蚀工艺，其特征在于：步骤3）中，玻璃基板在温度为35～45℃、压力为0.08～0.2MPa的混合液中采取喷射方式进行刻蚀。