[发明专利]一种制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具及其使用方法

说明书

技术领域

本发明涉及OLED蒸镀用掩模板制造领域，尤其涉及一种用于制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具。

背景技术

有机发光二极管（Organic Light-Emitting Diode，简写为OLED）是继阴极射线管（Cathode-ray Tube,简写为CRT）、液晶显示（Liquid Crystal Display,简写为LCD）之后的第三代显示技术，因其可以自发光不需要背光灯，所以可视范围宽（大于170°），而且还具有低功耗、低成本、使用温度范围广（-40°～80°）等突出优点，由此决定OLED成为未来最具前途的产品之一。

制备高质量OLED屏的一种核心技术是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸镀R、G、B三原色的有机材料制得，蒸镀工序用到的掩模板的质量直接影响到OLED屏的质量，所以制造蒸镀用掩模板的每一个环节都很重要。通常蒸镀用掩模板的制作工序包括：前处理→贴膜→曝光→显影→蚀刻（或电铸）→脱膜→固定等工序，其中显影、蚀刻、前处理工序中掩模板需要经过相应的处理线（显影处理线、蚀刻处理线、前处理线等），由于掩模板非常薄（通常为50μm左右），在过处理线过程中由于掩模板处于一定程度的自由状态，极易发生形变，掩膜板常常因此而报废，有鉴于此，有必要发明一种工具，解决掩模板因过处理线变形报废的问题。

发明内容

有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本发明提供了一种用于制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具。

所述用于制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具，包括边框架及在所述边框架上的开口，其特征在于,所述边框架包括两组相对共四条对边并在四条对边中央形成中空区域，所述开口为位于四条所述对边上的长条开口或离散开口；所述对边由内边和外边构成，所述开口位于所述内边和所述外边之间。

根据本发明背景技术中对现有技术所述，在通常蒸镀用掩模板的制作工序包括：前处理→贴膜→曝光→显影→蚀刻（或电铸）→脱膜→固定等工序，其中显影、蚀刻、前处理工序中掩模板需要经过相应的处理线（显影处理线、蚀刻处理线、前处理线等），由于掩模板非常薄（通常为50μm左右），在过处理线过程中由于掩模板处于一定的自由状态，极易发生形变，导致产品质量差，变形严重的甚至会导致产品报废，掩膜板常常因此而报废；本发明提供的用于制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具可以将掩模板四边进行联接并固定使其具有一定的张力从而使其表面平整，在经过相应的处理线时，不出现形变，减少报废率，节约生产成本，提升效率。

另外，根据本发明公开的用于制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具还具有如下附加技术特征：

所述边框架是一体成型结构或四条独立所述对边拼接形成的结构。

所述边框架可以是一体加工成型结构，使得整体精度更高，误差更小；在进行精密加工过程中，能够达到更高的精度要求，但此方法的成本相对要高；所述边框架还可以是由四条独立所述对边拼接形成的结构，从此，使得边框架加工更加简便，通过定位机构的精确定位及牢固的固定连接方式进行连接也可达到相同的效果。

进一步地，所述边框架形成的中空区域是多边形或者圆形

优选地，所述多边形为矩形。

优选地，所述多边形夹角处为过渡曲线。

进一步地，定位机构可以是定位销形成的定位机构，或者是定位边形成的定位机构。

进一步地，所述拼接结构为铆接或粘结或螺钉连接结构。

优选地，所述拼接结构是粘结结构。

所述内边宽度为大于等于1cm，且可以根据情况进行不同的宽度设计，即可以在上述范围内进行扩展，但不能遮挡掩模板上的图形区域；所述内边宽度越大，可以支撑所述掩模板的部位越多，越能避免所述掩模板因自身重力造成的悬空部分下垂所引起的相应变形，减少加工过程中成品的报废率，提高产品质量，减少产品的报废率。

所述外边宽度为大于等于1cm，且可以根据情况进行不同的宽度设计，即可以在上述范围内进行扩展，所述内边和外边宽度的增加，一方面增加了整体的重量，另一方面增加了所述辅助治具与处理线传输机构的接触面积，增加了传送过程中的稳定性，减少传送过程中可能出现的位置变动形成新的误差来源。

所述用于制作大面积蒸镀用掩模板的辅助治具还包括与所述内边框相连的横梁和竖梁，所述辅助治具可以只有横梁或只有竖梁。