[发明专利]线圈部件及制造线圈部件的方法有效

专利信息
申请号: 201210526111.7 申请日: 2012-12-07
公开(公告)号: CN103165259A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 刘永锡;安永圭;金容锡;李相汶;郭正福;许康宪;魏圣权 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: H01F17/04 分类号: H01F17/04;H01F27/28;H01F27/40;H01F41/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;李静
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 线圈 部件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种线圈部件,所述线圈部件包括:

下磁体;

主下部图案和次下部图案,所述主下部图案和所述次下部图案以螺旋形状相互平行地形成在所述下磁体上;

下绝缘层,所述下绝缘层覆盖所述主下部图案和所述次下部图案;

主上部图案和次上部图案,所述主上部图案和所述次上部图案分别电连接至所述主下部图案和所述次下部图案,并且所述主上部图案和所述次上部图案以螺旋形状相互平行地形成在所述下绝缘层上,以与所述主下部图案和所述次下部图案相对应;以及

上磁体,所述上磁体形成在所述主上部图案和所述次上部图案上,其中,所述主上部图案和所述次上部图案具有在平面上与所述主下部图案和所述次下部图案相交的部分。

2.根据权利要求1所述的线圈部件,其中,所述主上部图案和所述次上部图案布置为与所述主下部图案和所述次下部图案的布置相交。

3.根据权利要求2所述的线圈部件,其中,所述主上部图案和所述次上部图案布置为在相交部分中定位在所述主下部图案与所述次下部图案之间的空间中。

4.根据权利要求1所述的线圈部件,其中,所述下绝缘层包括覆盖所述主下部图案和所述次下部图案的主涂层以及用于使所述主涂层的上表面平面化的次涂层。

5.根据权利要求1所述的线圈部件,其中,所述主下部图案的宽度和所述次下部图案的宽度形成为大于所述主上部图案的宽度和所述次上部图案的宽度。

6.根据权利要求5所述的线圈部件,其中,所述主下部图案和所述次下部图案中的最内部图案的宽度和最外部图案的宽度形成为大于定位在所述最内部图案与所述最外部图案之间的图案的宽度。

7.根据权利要求1所述的线圈部件,其中,所述主上部图案和所述次上部图案以从所述主下部图案和所述次下部图案延伸并具有相同圈数的螺旋形状形成。

8.根据权利要求7所述的线圈部件,其中,所述主上部图案和所述次上部图案中的最外部图案的输出侧部分形成为定位在邻近所述主下部图案和所述次下部图案中的最外部图案的内侧的图案上。

9.根据权利要求1所述的线圈部件,还包括:

电阻调谐部分,所述电阻调谐部分从所述主下部图案和所述次下部图案中的较长图案的最外部图案的一部分扩展。

10.根据权利要求1所述的线圈部件,其中,所述主上部图案和所述次上部图案通过过孔与所述主下部图案和所述次下部图案电连接。

11.根据权利要求1所述的线圈部件,其中,所述上磁体形成为延伸至所述主上部图案和所述次上部图案以及所述主下部图案和所述次下部图案的中心。

12.一种制造线圈部件的方法,所述方法包括:

制备下磁体;

在所述下磁体上以螺旋形状相互平行地形成主下部图案和次下部图案;

在所述主下部图案和所述次下部图案上形成下绝缘层;

在所述下绝缘层上以螺旋形状相互平行地形成主上部图案和次上部图案,以与所述主下部图案和所述次下部图案相对应,其中,所述主上部图案和所述次上部图案形成为具有在平面上与所述主下部图案和所述次下部图案相交的部分;以及

在所述主上部图案和所述次上部图案上形成上磁体。

13.根据权利要求12所述的制造线圈部件的方法,其中,将所述主上部图案和所述次上部图案布置为与所述主下部图案和所述次下部图案的布置相交。

14.根据权利要求13所述的制造线圈部件的方法,其中,将所述主上部图案和所述次上部图案布置为在相交部分中定位在所述主下部图案与所述次下部图案之间的空间中。

15.根据权利要求12所述的制造线圈部件的方法,其中,形成所述下绝缘层包括:

在所述主下部图案和所述次下部图案上形成主涂层;以及

在所述主涂层上形成次涂层。

16.根据权利要求12所述的制造线圈部件的方法,其中,将所述主下部图案的宽度和所述次下部图案的宽度形成为大于所述主上部图案的宽度和所述次上部图案的宽度。

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