[发明专利]一种金面镀铜混合表面工艺的阶梯线路板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210528374.1 申请日: 2012-12-11
公开(公告)号: CN102946693A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 韦必忠;魏红;李文勇;刘洪林 申请(专利权)人: 桂林电子科技大学
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/18;H05K1/02
代理公司: 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 45112 代理人: 杨雪梅
地址: 541004 广*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀铜 混合 表面 工艺 阶梯 线路板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种金面镀铜混合表面工艺的阶梯线路板的制造方法,包括如下步骤:

(1)对线路板基板进行开料、内层图形转移、棕化及压板处理后,对其进行钻孔;

(2)对钻孔后的基板进行沉铜板镀;

(3)对沉铜板镀后的基板全板电镀;

(4)对电镀后的基板贴压厚金专用干膜,经曝光、显影实现第一次图形转移,第一次图形转移只显露局部电厚金部位;

(5)对第一次图形转移的电厚金部位依次进行电镀铜、镀镍金、电厚金;

(6)对电厚金后的基板退除表面干膜;

(7)对退膜后的基板贴压高附着力干膜,经曝光、显影实现第二次图形转移,第二次图形转移只显露需加镀铜的部位;

(8)对第二次图形转移的加镀铜部位进行电镀铜;

(9)对加镀铜后的基板退除表面干膜;

(10)对退膜后的基板进行丝印湿膜,湿膜预烘后经曝光、显影实现第三次图形转移,第三次图形转移显露需要的外层线路;

(11)对第三次图形转移的外层线路贴压耐碱性蚀刻干膜,经曝光、显影把PTH孔全部覆盖;

(12)以碱性药水进行线路蚀刻;

(13)把基板上附着的干膜及湿膜退除掉;

(14)检查外层线路;

(15)表面阻焊,;

(16)丝印字符;

(17)外型加工,外型公差±0.10mm;

(18)测试检查成品板的电气性能;

(19)做OSP表面工艺;

(20)检查成品板的外观,合格产品包装出货。

2.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(3)所述的全板电镀是以15ASF的电流密度全板电镀90min,孔铜厚度为20-28um。

3.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(4)所述干膜压膜温度115±5度,压力4.0-5.0Kg/cm2,速度1.5-1.6m/min,入板温度50-60度,出板温度70-85度;采用21格曝光尺,以5-7格完成外层线路曝光,并进行显影,显露局部电厚金部位。

4.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(5)所述电镀铜工序,先进行表面微蚀,微蚀量控制在0.8-2.0μm,铜缸铜离子控制在55±5g/L,以8ASF的电流密度电镀铜5-10min,镀铜厚度控制在1-3μm;所述镀镍金,镀镍0.9ASD*15min,镀金0.8ASD*50s;所述电厚金,是在厚金缸中于原金层表面直接电厚金,厚金缸金浓度控制在4-6g/L,镀厚金条件为1.0ASD*H。

5.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(7)所述干膜压膜温度110±5度,压力4.5-5.5Kg/ cm2,速度1.0-1.2m/min,入板温度50-60度,出板温度75-85度,采用21格曝光尺,以5-6格完成图形曝光,并进行显影,显露需加镀铜的部位。

6.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(8)所述加镀铜时,在生产板的PNL间设置同等长度的分流板,铜缸铜离子控制在65±5g/L,以10ASF的电流密度进行电镀。

7.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(10)所述丝印湿膜,湿膜预烘条件为75±5度*35min,膜厚度控制在12-18μm,曝光以负片形式,采用21格曝光尺,以8-10格完成外层线路曝光,并进行显影,显露需要的外层线路。

8.根据权利要求1所述的线路板的制造方法,其特征是:步骤(11)所述贴压耐碱性蚀刻干膜,压膜温度110±5度,压力4.0-5.0Kg/ cm2,速度1.0-1.2m/min,入板温度40-60度,出板温度70-85度;采用21格曝光尺,以6-8格完成图形曝光,并进行显影把PTH孔全部覆盖。

9.根据权利要求1-8之一所述方法制得的金面镀铜混合表面工艺的阶梯线路板。

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