[发明专利]金字塔研磨盘

说明书

本发明涉及研磨设备技术领域，尤其涉及一种金字塔研磨盘，其包括60%～80%（重量）的金刚石微粉，余量为非金刚石纳米级抛光材料，其中，非金刚石纳米级抛光材料为氧化铝、氧化铈、碳化硅中的一种或几种与树脂的混合物，金刚石微粉和非金刚石纳米级抛光材料的目数为600～5000目，本发明可以使磨料混合后均匀分布，获得稳定的切削效率、更长的使用寿命，金刚石微粉及氧化铝、氧化铈、碳化硅可以对晶体进行精磨，不会损伤被加工的材料，无破片、无划伤，稳定性、安全性更好，并且由于金刚石微粉及氧化铝、氧化铈、碳化硅化学性能稳定，因此本发明的金字塔研磨盘与具有腐蚀性的研磨液配合使用时表现出色。

技术领域

本发明涉及研磨设备技术领域，特别是涉及一种可以对宝石、硅片、晶片等晶体材料进行精磨的金字塔研磨盘。

背景技术

在工业中，经常需要对工件的表面进行处理，使其达到一定的平整度，尤其是对于蓝宝石、硅片、晶片、衬底片等晶体材料，其表面处理的要求更高。因此，需要通过研磨盘配以研磨液对工件的表面进行磨削。将研磨盘的表面放大，可以看到其表面具有微小的、锋利的凸起部，研磨盘在工件上相对运动时，这些锋利的凸起部可以对工件的表面进行磨削。

研磨盘的材质直接关系到研磨盘的使用寿命和研磨效果，现有的研磨盘的材质通常采用灰口铸铁，其耐磨性差，使用寿命短。在申请号为201110143354.8的中国发明专利申请“合成铜盘研磨盘”中，其记载了一种主要成分为铜的研磨盘，具体的组分为：铜粉90～95%，镍粉1～5%，铈粉3～10%，并添加上述组分总量的10～50%的环氧树脂和聚氨酯胶的混合物。使用上述材质的研磨盘依然存在耐磨性差，使用寿命短的缺点，不适合对晶体进行精细研磨并且，当研磨液具有腐蚀性时，上述研磨盘会缩短使用寿命。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足，而提供一种可以对宝石、硅片、晶片等晶体材料进行精磨的金字塔研磨盘，其耐磨性好，使用寿命长，适合对晶体进行精磨。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种金字塔研磨盘，其包括60%～80%（重量）的金刚石微粉，余量为非金刚石纳米级抛光材料，其中，非金刚石纳米级抛光材料为氧化铝、氧化铈、碳化硅中的一种或几种与树脂的混合物，金刚石微粉和非金刚石纳米级抛光材料的目数为600～5000目。

优选的，其包括65%～75%（重量）的金刚石微粉，余量为非金刚石纳米级抛光材料。

优选的，其包括70%（重量）的金刚石微粉、30%（重量）的非金刚石纳米级抛光材料。

优选的，所述金刚石微粉的纯度为98%以上。

优选的，所述非金刚石纳米级抛光材料为氧化铝，氧化铝的纯度为98%以上。

优选的，所述非金刚石纳米级抛光材料为氧化铈，氧化铈的纯度为98%以上。

优选的，所述非金刚石纳米级抛光材料为碳化硅，碳化硅的纯度为98%以上。

本发明的有益效果是：一种金字塔研磨盘，其可以使磨料混合后均匀分布，获得稳定的切削效率、更长的使用寿命，金刚石微粉及氧化铝、氧化铈、碳化硅可以对晶体进行精磨，不会损伤被加工的材料，无破片、无划伤，稳定性、安全性更好，并且由于金刚石微粉及氧化铝、氧化铈、碳化硅化学性能稳定，因此本发明的金字塔研磨盘与具有腐蚀性的研磨液配合使用时表现出色。

附图说明

图1是本发明的研磨盘的结构示意图。

图2是本发明的研磨刃的结构示意图。

图3是本发明的研磨刃、研磨底层的局部剖面示意图。

附图标记说明：

1——基体 11——连接孔