[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其一边使被水平地保持的基板旋转，一边利用药液对基板的周缘部进行液处理，其特征在于，

该基板处理装置具有：

基板保持部，其用于水平地保持基板；

旋转驱动部，其用于使上述基板保持部旋转；

第1药液喷嘴，其用于向基板的周缘部上的第1药液供给位置喷出第1药液；

第2药液喷嘴，其用于向基板的周缘部上的第2药液供给位置喷出第2药液，

当上述第1药液喷嘴喷出第1药液时，上述旋转驱动部使上述基板保持部向第1旋转方向旋转，并且，当上述第2药液喷嘴喷出第2药液时，上述旋转驱动部使上述基板保持部向与第1旋转方向相反的第2旋转方向旋转。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在以上述第1药液供给位置为基准沿着第1旋转方向观察中心角的情况下，该中心角比180度大，该中心角是通过将基板的中心、上述第1药液供给位置的中心点以及上述第2药液供给位置的中心点连结起来而形成的。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述第1药液喷嘴以所喷出的第1药液的喷出方向向上述第1旋转方向倾斜的方式形成，

上述第2药液喷嘴以所喷出的第2药液的喷出方向向上述第2旋转方向倾斜的方式形成。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述第1药液喷嘴以所喷出的第1药液的喷出方向具有朝向基板的半径方向外侧的分量的方式形成，

上述第2药液喷嘴以所喷出的第2药液的喷出方向具有朝向基板的半径方向外侧的分量的方式形成。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述第1药液喷嘴以向上述基板的上表面喷出第1药液的方式配置，

上述第2药液喷嘴以向上述基板的上表面喷出第2药液的方式配置，

上述基板处理装置还具有：

第1药液喷出口，其用于向基板的下表面上的第3药液供给位置喷出第1药液；

第2药液喷出口，其用于向基板的下表面上的第4药液供给位置喷出第2药液，

上述第3药液供给位置与上述第1药液供给位置夹着上述基板，并且上述第3药液供给位置位于上述第1药液供给位置的在上述第1旋转方向上的下游侧，

上述第4药液供给位置与上述第2药液供给位置夹着上述基板，并且上述第4药液供给位置位于上述第2药液供给位置的在上述第2旋转方向上的下游侧。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置还具有杯体，该杯体形成有用于接收从基板飞散的第1药液及第2药液的环状的液体接收空间和用于排出第1药液和/或第2药液的排液口，

上述杯体的底面由朝向上述排液口去而向下方倾斜的液体接收底面构成，

上述液体接收底面中的在与第1药液供给位置相对应的位置和与第2药液供给位置相对应的位置之间的部位比其他部位高而成为最高位，并且上述液体接收底面从成为最高位的部分沿着第1旋转方向和第2旋转方向向下方倾斜。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述液体接收底面中的、成为最高位的部分设有用于供给载液的载液供给口。

8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置还具有盖构件，该盖构件以隔着空间与基板的上表面相对的方式设置，

上述第1药液喷嘴和上述第2药液喷嘴安装于上述盖构件。

9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置还具有用于向上述第1药液喷嘴喷出清洗液的第1清洗液喷出口和用于向上述第2药液喷嘴喷出清洗液的第2清洗液喷出口。

10.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置还具有用于使上述第1药液喷嘴和上述第2药液喷嘴在水平方向上移动的喷嘴驱动部，

上述第1药液喷嘴一边喷出第1药液一边从上述基板的外侧移动至向第1药液供给位置喷出第1药液的位置，

上述第2药液喷嘴一边喷出第2药液一边从上述基板的外侧移动至向第2药液供给位置喷出第2药液的位置。