[发明专利]一种内嵌式触摸屏彩膜基板及其制造方法

权利要求书

1.一种内嵌式触摸彩膜基板，包括：

一基板，所述基板包括多个显示区域以及包围所述显示区域的多个非显示区域；

依次形成于所述基板上的第一金属层、第一有机膜层、第二金属层以及第二有机膜层，所述第二金属层包括设置于非显示区域内的多个导电垫；

其特征在于，在所述非显示区域内的第一有机膜层上形成有多个通孔或者通槽，所述导电垫通过所述通孔或通槽与所述第一金属层电连接，并且所述导电垫暴露于所述第二有机膜层之外。

2.如权利要求1所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，所述非显示区域内的第二金属层全部暴露于第二有机膜层之外。

3.如权利要求1所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，每个所述非显示区域内的所述多个导电垫均位于所述非显示区域的同一侧并排成直线。

4.如权利要求3所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，所述基板包括至少一行和至少一列的显示区域，每个非显示区域均包围一所述显示区域。

5.如权利要求4所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，所述每一行或列内的多个导电垫均位于所述该行或列的非显示区域的同一侧并排成直线。

6.如权利要求1所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，所述第一有机膜层及第二有机膜层的厚度范围为1.5μm~2.5μm。

7.一种内嵌式触摸屏，包括如权利要求1至6任意一项所述的内嵌式触摸彩膜基板、阵列基板以及设置于所述内嵌式触摸彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。

8.一种如权利要求1所述的内嵌式触摸彩膜基板的制造方法，包括：

提供一基板，所述基板包括至少一个显示区域以及包围所述显示区域的至少一个非显示区域；

在所述基板上形成第一金属层；

在所述第一金属层上形成第一有机膜层；

刻蚀去除部分第一有机膜层，形成至少一个通孔或通槽；

在所述第一有机膜层上形成第二金属层，所述第二金属层包括设置于每个非显示区域内的多个导电垫，所述导电垫通过所述通孔或通槽与所述第一金属层电连接；

在所述第二金属层上形成第二有机膜层；

刻蚀去除部分第二有机膜层，暴露出所述导电垫。

9.如权利要求8所述的内嵌式触摸彩膜基板的制造方法，其特征在于，在刻蚀去除部分第二有机膜层之后，暴露出每个非显示区域。

10.如权利要求8所述的内嵌式触摸彩膜基板的制造方法，其特征在于，每个所述非显示区域内的所述多个导电垫位于所述非显示区域的同一侧并排成直线。

11.如权利要求10所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，所述基板包括至少一行和至少一列的显示区域，在每个非显示区域均包围一所述显示区域。

12.如权利要求11所述的内嵌式触摸彩膜基板，其特征在于，所述每一行或列内的多个导电垫均位于所述该行或列的非显示区域的同一侧并排成直线。

13.如权利要求8所述的内嵌式触摸彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述第一有机膜层及第二有机膜层的厚度范围为1.5μm~2.5μm。