[发明专利]一种全抛釉瓷质砖及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及瓷质砖生产技术领域，尤其是涉及一种全抛釉瓷质砖及其制备方法。

背景技术

全抛釉是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，它是施于仿古砖的最后一道釉料，全抛釉瓷质砖能较好的实现瓷砖的物理性能和装饰性能，结合仿古砖和抛光砖的优点于一身，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。中国陶瓷历经30余年发展，瓷砖致密度高，耐磨，容易打理，从它的物理性能来看，已经大大地超过天然石材，但在全抛釉工艺出现之前，瓷砖整体装饰功能较为单调；由于全抛釉在纹理色泽实现上无可比拟的装饰性，所以从某种程度上讲，是全抛釉的出现把瓷砖的装饰性能提到了一个新的高度。传统的全抛釉瓷质砖的施釉工艺中，一般是依靠多道丝网印刷装饰全抛釉的方法，如中国专利申请号为CN201110168602.4，发明名称为一种全抛釉仿古砖面釉及其制备方法，其主要由以下质量百分比的原料制备而成：钠长石4-8％、钾长石9-12％、方解石12-15％、碳酸钡4-6％、氧化铝6-10％、烧滑石12-15％、氧化锌2-4％、石英粉2-5％、高岭土9-13％、硅灰石5-9％，其余为杂质。根据所述的配方称取原料，按原料∶球石∶乙二醇∶印油＝1∶1.8-2∶0.25∶0.3进行球磨，同时控制细度为：325目筛筛余0.3-0.4％，通过100目丝网连续印刷工艺印刷到底釉、花釉层之上，最后通过液化气滚道窑烧成制度烧制。此专利虽然在釉料制作过程中加入了乙二醇和印油以尽量减少生产时粘网问题的发生，但并不能从根本上避免丝网印刷中容易粘网而在抛釉时产生“雪花”缺陷等，而且三道以上的丝网印釉工序成本高，工艺复杂，优等率偏低，平均值大概只有90～94%。

发明内容

本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种产品表面光泽度高、釉层通透、图案清晰、防污效果好，质量优等品率高的全抛釉瓷质砖。

本发明的另一目的是提供一种全抛釉瓷质砖的生产方法。

本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种全抛釉瓷质砖，包括坯体及其表面的面釉，面釉上层施有全抛釉，其特征在于，所述坯体的化学成分组成含量为：Al₂O₃（18-19）%、SiO₂（68.5-70）%、Fe₂O₃（0.6-0.8）%、CaO（0.4-0.5）%、MgO（0.7-0.9）%、K₂O（2.6-2.8）%、Na₂O（2.5-2.7）%、TiO₂（0.25-0.35）%、烧失量I.L（4.8-4.9）%；

面釉的化学成分组成含量为：Al₂O₃（13-15）%、SiO₂（60-63）%、B₂O₃（0.9-1.1）%、CaO（0.7-0.9）%、MgO（13-14）%、ZnO（1.3-1.5）%、K₂O（1.3-1.45）%、Na₂O（1.4-1.45）%、ZrO₂（1.38-1.45）%、其它（3-4）%；

全抛釉的化学成分组成含量为：Al₂O₃（19-22）%、SiO₂（49-51）%、B₂O₃（0.2-0.3）%、CaO（16 -18）%、MgO（1.4-1.5）%、K₂O（1.5-1.8）%、Na₂O（2.5-2.7）%、其它（6-7）%。

作为上述方案的进一步说明，所述坯体的化学成分组成含量优选：Al₂O₃：18.19%、SiO₂：69.29%、Fe₂O₃：0.72%、CaO：0.46%、MgO：0.82%、K₂O：2.72%、Na₂O：2.58%、TiO₂：0.31%、烧失量I.L：4.86%；