[发明专利]一种光伏硅片清洁剂及其清洁方法无效

专利信息
申请号: 201210567037.3 申请日: 2012-12-25
公开(公告)号: CN103897862A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 白恒玮 申请(专利权)人: 青海天誉汇新能源开发有限公司
主分类号: C11D1/831 分类号: C11D1/831;C11D3/10;B08B3/12;B08B3/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 810000 青海省*** 国省代码: 青海;63
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 清洁剂 及其 清洁 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光伏硅片清洁剂及光伏硅片的化学、超声波清洁方法。

背景技术

太阳能硅片是光伏电池片的载体,硅片质量的好坏直接决定了光伏电池片转换效率的高低。太阳能硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等几道工序后,表面不可避免地会受到不同程度的污染,因此,需要对太阳能硅片进行清洗,以去除其表面的一些颗粒、金属离子以及有机物。但太阳能硅片清洗的好坏在一定程度上会影响硅片的质量,处理不当会损害硅片的稳定性与可靠性,甚至使得整个产品报废。由于太阳能硅片在进入每道工艺之前表面都必须是洁净的,所以需经过多次重复清洗,使得硅片的清洗工作成为一个繁琐的问题,为此受到国内外研究机构及企业的重视。这是一个光伏行业不容忽视的工序。很多企业开发并生产硅片清洗设备,所以目前市面上有多种用于太阳能硅片清洗的工艺,比如超声清洗法、RCA标准清洗、兆声清洗法、高压喷射法、离心喷射法、等离子清洗、气相清洗、激光束清洗等等,形成了百花齐放的势态。使用何种清洗工艺方法,需要根据不同客户不同硅片上的表面状态、洁净度、污染情况等进行选择。据业内反馈,在众多的清洗方法中,使用较多的是超声波清洗法与RCA标准清洗法。到目前为止还没用一种专用的清洗剂,且绝大多数使用效果并不理想。

发明内容

本发明旨在提供一种效率高、清洁效果好,廉价的光伏硅片清洗剂,并提供一种超声波清洗法方法。

本发明光伏硅片清洁剂的技术方案是:其特点是该清洁剂的组分为:按重量配比为,纯水∶碳酸钠∶偏硅酸钠∶脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚∶C12脂肪醇聚氧乙烯醚∶烷基苯磺酸盐∶烷基双羟酸盐=100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1;将上述原料混合,充分搅拌而成。

本发明清洁方法的技术方案是:其特点是步骤一:制作清洁剂,将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合,并充分搅拌;步骤二:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗5分钟,温度50℃,超声波功率80w,频率40Hz;步骤三:清洁剂冲洗,将硅片放入容器中加入上述清洁剂,用超声波清洗5分钟,温度65℃,超声波功率80w,频率40Hz;步骤四:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗5分钟,温度50℃,超声波功率80w,频率40Hz;步骤五:烘干。

本发明具有如下的优点和效果:1、清洗剂中碳酸钠、偏硅酸钠为碱性洗涤剂,脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐为活性剂,故成本较低,同时效率高、清洁效果好。2、本发明的提出超声波清洗的工艺流程,清洗硅片后,在显微镜下表面看不到任何污染物残留,色泽光亮均一,能极大地节省成本,减少环境污染。

具体实施方式

实施例1一:制作清洁剂,将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合,并充分搅拌;二:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗5分钟,温度50℃,超声波功率80w,频率40Hz;三:清洁剂冲洗,将硅片放入容器中加入上述清洁剂,用超声波清洗5分钟,温度65℃,超声波功率80w,频率40Hz;四:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗5分钟,温度50℃,超声波功率80w,频率40Hz;五:烘干。

实施例2一:制作清洁剂,将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合,并充分搅拌;二:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗10分钟,温度40℃,超声波功率80w,频率40Hz;三:清洁剂冲洗,将硅片放入容器中加入上述清洁剂,用超声波清洗10分钟,温度70℃,超声波功率100w,频率40Hz;四:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗5分钟,温度40℃,超声波功率80w,频率40Hz;五:烘干。

实施例3一:制作清洁剂,将纯水、碳酸钠、偏硅酸钠、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙稀封端聚醚、C12脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基苯磺酸盐、烷基双羟酸盐按100∶2∶2∶3∶3.5∶2∶1的比例混合,并充分搅拌;二:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗3分钟,温度60℃,超声波功率60w,频率40Hz;三:清洁剂冲洗,将硅片放入容器中加入上述清洁剂,用超声波清洗3分钟,温度60℃,超声波功率60w,频率40Hz;四:纯水冲洗,将硅片放入容器中加入纯水,用超声波清洗2分钟,温度60℃,超声波功率80w,频率40Hz;五:烘干。

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