[发明专利]多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统有效

专利信息
申请号: 201210569823.7 申请日: 2012-12-25
公开(公告)号: CN103063407A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 赵利刚;刘华;袁海骥 申请(专利权)人: 科纳技术(苏州)有限公司
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215121 江苏省苏州市工业园区启明路15*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 通道 双折射 液晶 衰减 波纹 测试 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统。本发明可以准确地测试出多通道电控双折液晶的衰减波纹数值,进而判定液晶rubbing mark的工艺水平,能够广泛适用于要求检测多通道电控双折射液晶的各个领域,尤其是适用于大型企业和科研机构对多通道电控双折射液晶衰减波纹进行测试,成本低、速度快。

背景技术

近些年来,多通道电控双折射液晶的出现对科学技术的发展和工业生产技术的革新影响日趋明显。电控双折射液晶不但可以应用到液晶显示LCD领域,尤其投影放大的大画面多色显示领域;同时,在DWDM光纤通信领域的功率均衡中也具有较好的市场应用价值。

传统的多通道电控双折射液晶衰减波纹测试方法因为其通道较多,复杂度较高,逐个通道测试需要时间较长,同时,由于电控双折射液晶在光纤通信领域需要测试特定衰减下的每个通道损耗波纹数值,由于不同通道特定衰减下的电压有差别,因此传统的方法测试较为复杂、测试精度低、测试速度慢。

发明内容

本发明公开了一种可以准确地测试出多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统,通过每个通道的电压-插损曲线拟合得出每个通道的固定衰减下的准确电压,具有成本低、测试方法简单,适用于大型企业对多通道电控双折射液晶衰减波纹的测试。本发明的使用能够克服传统方法测试多通道电控双折射液晶衰减波纹测试速度慢、测试精度低和无法实现自动化等缺点,具备测试速度较快以及测试精度高等优点。

本发明所采用的技术方案为:

多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统,其特征在于:包括光源模块、光学平台、待测多通道电控双折射液晶及其夹、治具、45度偏振片、平面反射镜、环形器、光谱分析仪及测试程序,其中光源模块作为宽带光源,宽带光源经过光学平台入射到带有夹、治具的待测多通道电控双折射液晶上,45度偏振片用于从多通道电控双折射液晶产生不同偏振光的衰减改变,平面反射镜用于反射不同偏振态的宽带光,该光再经过光学平台,经由环形器接收到光谱分析仪,光谱分析仪用于测量多通道电控双折射液晶的插入衰减损耗,整个测试系统的数据采集和数据分析是通过Labview平台独立开发的测试程序进行自动控制。

进一步地,前述的多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统,其特征在于通过夹、治具调整多通道电控双折射液晶的位置,使得所有通道入射的线偏光在同一水平线,并通过其治具给多通道电控双折射液晶以全高电压,使得线偏光以最小损耗入射。

进一步地,前述的多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统,其特征在于Labview编写的测试程序能够分别设定电控双折射液晶所有通道几组电压数值,光谱分析仪测试不同电压下的损耗,实时地保存多通道电控双折射液晶的电压-插损数值,然后通过曲线拟合计算出预想衰减下的准确电压。

本发明的使用能够克服传统方法测试多通道电控双折射液晶衰减波纹测试不准确、测试范围小、测试速度慢和无法实现自动化等缺点,具有测试精度高、速度快,适用于大型企业和科研机构对多通道电控双折射液晶的rubbing mark状况进行检测。

附图说明

图1为多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统示意图。

图中各附图标记的含义为:1、光源模块;2、环形器;3、光学平台;4、待测多通道电控双折射液晶及其夹、治具;5、45度偏振片;6、平面反射镜;7、光谱分析仪;8、测试程序。

图2为多通道电控双折射液晶衰减波纹测试程序界面图。

图3为多通道电控双折射液晶衰减波纹测试结果示意图。

具体实施方式

为了实现多通道电控双折射液晶衰减波纹的低成本、宽范围、高速度和自动化测试,本发明提出了多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统。该测试系统可以准确地测试出多通道电控双折射液晶的衰减波纹,能够广泛适用于大型企业和科研机构对多通道电控双折射液晶rubbing mark工艺水平的检测。该测试系统包括光源模块1、环形器2、光学平台3、待测多通道电控双折射液晶及其夹、治具4、45度偏振片5、平面反射镜6、光谱分析仪7、测试程序8。其结构如图1所示。

该多通道电控双折射液晶衰减波纹测试系统的具体实施方式包含两个部分:

(一)系统的组装:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于科纳技术(苏州)有限公司,未经科纳技术(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210569823.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top