[发明专利]采用电磁加热的CVD设备有效
申请号: | 201210570492.9 | 申请日: | 2012-12-25 |
公开(公告)号: | CN103074596A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 王奉瑾 | 申请(专利权)人: | 王奉瑾 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 电磁 加热 cvd 设备 | ||
1.采用电磁加热的CVD设备,包括一壳体,其特征在于:所述壳体横向两侧分别设有供放置待镀膜材料的传输带通过的入口和出口,且所述传输带将所述壳体分隔成上腔与下腔,所述壳体内入口和出口处分别设有动态夹持所述传输带并带动其移动的滚筒组,各所述滚筒组包括贴设于传输带上侧的上滚筒和贴设于传输带下侧的下滚筒,所述壳体上还设有驱动所述滚筒组运转的第一伺服电机;所述壳体上开设有供惰性气体进入的进气口和排出的排气口,所述下腔内设有移动的电磁混合装置,所述电磁混合装置具有一朝向所述传输带并喷射工作气体的喷气嘴。
2.根据权利要求1所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述下腔内设有一转动的丝杆,所述电磁混合装置设有与所述丝杆适配的螺纹孔,所述电磁混合装置由所述螺纹孔安装于所述丝杆上。
3.根据权利要求2所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述电磁混合装置包括具有混合腔的混合仓、包覆所述混合仓的支撑框架,所述支撑框架上设有围绕于所述混合仓周边的电磁感应线圈,所述电磁感应线圈外接交流电源。
4.根据权利要求3所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述混合仓包括位于底端的进气部、与进气部连接且位于顶端并形成所述混合腔的的混合部,所述进气部容纳于所述支撑框架内,所述进气部内设有若干与所述混合部气路连通的进气腔道,所述喷气嘴设于所述混合部。
5.根据权利要求4所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述喷气嘴为长条形狭缝,所述混合部包括由所述喷气嘴向两侧分别延伸出的两斜向面及将所述斜向面与所述进气部连接的水平面,所述混合部的横向截面呈等腰三角形;所述进气腔道为两条,所述进气部设有由其底部向所述混合部延伸的分隔壁面,两所述进气腔道由所述分隔壁面及所述进气部侧壁围合而成。
6.根据权利要求5所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述进气部的底端开设两个连通外部进气设备的通孔,两所述通孔分别与两所述进气腔道连接。
7.根据权利要求5所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述混合部靠近所述进气部具有突出于所述进气部的突出部分。
8.根据权利要求2所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:所述电磁混合装置还包括设于所述壳体侧壁并驱动所述丝杆转动的第二伺服电机。
9.根据权利要求1所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:各所述上滚筒和下滚筒的表面设有弹性层,各所述上滚筒和下滚筒的两端部表面相互弹性按压,各所述上滚筒和下滚筒之间具有供所述传输带通过的间隙,且各所述上滚筒和下滚筒与所述传输带之间相互弹性按压。
10.根据权利要求1~9任一项所述的采用电磁加热的CVD设备,其特征在于:包括控制系统,所述控制系统包括膜厚监控系统、测温装置、压力测控系统、视频监控装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的