[发明专利]一种掩模板及其加工方法无效

专利信息
申请号: 201210573283.X 申请日: 2012-12-26
公开(公告)号: CN103014619A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 唐军 申请(专利权)人: 唐军;钱超
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 代理人: 张志醒
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 模板 及其 加工 方法
【权利要求书】:

1. 一种掩模板,包括ITO接触面和蒸镀面,在所述蒸镀面上设置有多个蒸镀孔,所述蒸镀孔自所述蒸镀面贯穿至所述ITO接触面,且截面呈阶梯状,其特征在于:所述蒸镀孔包括同轴设置的第一段和第二段,所述蒸镀孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐渐收缩状。

2. 如权利要求1所述的掩模板,其特征在于:所述第一段和第二段均由激光切割而成,且切割方向相同。

3. 如权利要求2所述的掩模板,其特征在于:所述第二段呈锥形,所述锥形的锥角为4~10度。

4. 如权利要求3所述的掩模板,其特征在于:所述掩模板的厚度为18~190μm。

5. 如权利要求4所述的掩模板,其特征在于:所述第二段的垂直深度为10~50μm。

6. 如权利要求1所述的掩模板,其特征在于:所述掩模板的材料为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金中的任意一种,厚度为18~45μm。

7. 一种掩模板的加工方法,所述掩模板包括ITO接触面和蒸镀面,在所述蒸镀面上设置有多个蒸镀孔,所述蒸镀孔自所述蒸镀面贯穿至所述ITO接触面,且截面呈阶梯状,其特征在于,所述蒸镀孔包括同轴设置的第一段和第二段,所述蒸镀孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐渐收缩状,所述加工方法包括以下步骤:

采用激光工艺在所述蒸镀面上沿垂直于所述ITO接触面的方向加工出所述第一段,并控制加工余量;

调整激光位置,沿所述第一段的加工方向在所述加工余量上加工出所述第二段。

8. 如权利要求7所述的掩模板的加工方法,其特征在于:所述加工余量为10~50μm。

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